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Ihre FIB-SEM-Mikroskope für Nanotomografie und Nanofabrikation

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FIB-SEM-Mikroskope Crossbeam 340 und Crossbeam 540

Genießen Sie hohe Produktivität mit einer Open 3D Nano-Workstation

Beschleunigen Sie Ihre Tomografieabläufe: Verwenden Sie bis zu 100 nA FIB-Strom mit dem exzellenten Punktprofil, um die Lücke zwischen Mikro- und Nano-Patterning zu schließen.

Mit Crossbeam verbinden Sie die Imaging-und Analyseleistung der GEMINI-Elektronensäule mit der Materialverarbeitungs- und Probenpräparationsleistung eines FIB der nächsten Generation im Nanomaßstab. Verwenden Sie das modulare Plattformkonzept unserer FIB-SEM Mikroskope und die offene, leicht zugängliche Softwarearchitektur für durchsatzstarke Nanotomografie und Nanofabrikation für anspruchsvollste, leitfähige oder magnetische Proben.

 

Erfassen Sie mehr Informationen in weniger Zeit

  • Beschleunigen Sie Ihre Nanotomografie und Nanofabrikation: Kombinieren Sie SEM-Leistung bei niedriger Spannung mit FIB-Strömen bis 100 nA.
  • Erfassen Sie maximale Informationen: Erstellen Sie Ihre Aufnahmen mit mehreren Detektoren und nutzen Sie die Möglichkeit der gleichzeitigen Abtragung und Aufnahme.
  • Untersuchen Sie mit GEMINI-Technologie und dem optionalen ATLAS 3D-Paket große Sehfelder bis 50 k x 40 k Pixel.

Sichern Sie sich die volle Prozesskontrolle

  • Profitieren Sie während Ihrer anspruchsvollen Langzeitexperimente von maximaler Stabilität und einem einheitlichen Strahlenprofil.
  • Ändern Sie Systemparameter wie Sondenstrom oder Beschleunigungsspannung während der Bilderfassung in Echtzeit, ohne Bildanpassungen vornehmen zu müssen.
  • Genießen Sie die übersichtliche grafische Benutzerschnittstelle.

Erleben Sie maximale Flexibilität

  • Rüsten Sie Ihr Crossbeam mit einem breiten Angebot an Detektoren und Zubehörelementen bequem auf.
  • Passen Sie Ihr System für In situ-Experimente an.
  • Mit der offenen Programmierschnittstelle (API) haben Sie Zugang zu allen Mikroskopparametern.

Crossbeam 340 mit GEMINI I VP

  • Profitieren Sie von maximaler Probenflexibilität in Mehrzweckumgebungen.
  • Führen Sie In situ-Experimente mit ausgasenden oder leitfähigen Proben durch.
  • Genießen Sie den einmaligen GEMINI Materialkontrast mit dem optionalen Inlens Duo Detektor.

Crossbeam 540 mit GEMINI II

  • Erzielen Sie dank dem Doppelkondensorsystem selbst bei niedriger Spannung und hohen Strömen eine hohe Auflösung.
  • Erfassen Sie mit hochauflösendem Imaging und schnellen Analysen mehr Informationen in kürzerer Zeit.
  • Profitieren Sie mit gleichzeitigem SE- und EsB-Imaging von einem einmaligen Topografie- und Materialkontrast.

Führen Sie Materialabtragung und Fabrikation durch

Rüsten Sie Ihr Crossbeam mit einem optionalen Laser auf, um für massive Abtragung von modernster Technologie zu profitieren. In Kombination mit dem High Current-FIB fabrizieren Sie funktionale Strukturen wie mikrofluidische Elemente und MEMS vom Millimeter- bis zum Nanometerbereich.

Machen Sie tief verborgene Zielbereiche zugänglich oder beschneiden Sie weiche Proben, die durch mechanische Präparation verschmiert, entlaminiert oder komprimiert werden. Mit Ihrem Crossbeam und der Laser-Option führen Sie Materialabtrag und Fabrikation in einem einzigen, gut integrierten System durch.

Passen Sie Ihr ZEISS Crossbeam mit der Remote-API an

Die offene Programmierschnittstelle von Crossbeam ermöglicht Ihnen den Zugang zu fast allen Mikroskopparametern.
Steuern Sie Elektronen- und Ionenoptik, Tisch, Vakuumsystem, Detektoren, Scanning und Bildaufnahme in kundenspezifischen Programmen, die auf dem System-PC oder auf einer Remote-Workstation laufen.

Besuchen Sie das SmartSEM API-Entwicklungs-Webforum und diskutieren Sie mit anderen Entwicklern.

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ZEISS Atlas 5 – Meistern Sie Ihre multi-dimensionale Herausforderung

Mit Atlas 5 erstellen Sie multi-dimensionale Bilder. Das leistungsstarke Paket aus Hardware und Software ergänzt Ihr ZEISS Rasterelektronenmikroskop mit fokussiertem Ionenstrahl (FIB-REM).

Korrelieren Sie Röntgenmikroskopie und FIB-REM: nutzen Sie 3D Volumendatensätze aus der Röntgenmikroskopie um tiefliegende Stellen zu lokalisieren und präzise mit dem FIB-REM anzusteuern.

Profitieren Sie von zwei Modulen, die speziell für FIB-REM Applikationen entwickelt wurden: Erstellen Sie automatisch 3D Datensätze mit dem 3D Tomographie Modul. Lösen Sie komplexe Anforderungen an Nanostrukturierung und Nanoprototypisierung mit dem Modul NPVE Advanced (Advanced Nanopatterning & Visualization Engine).

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Visualisierungs- und Analyse-Software

ZEISS empfiehlt Visual SI Advanced von Object Research Systems (ORS)
Die erweiterte Analyse-und Visualisierungs-Software für Ihre 3D Datensätze aus verschiedensten Technologien einschließlich Röntgenmikroskopie, FIB-REM und REM.
Visual SI Advanced ermöglicht durch die erweiterten Visualisierungstechniken und die State-of-the-Art Volumengraphiken hochauflösende Analysen der Details und Eigenschaften von 3D Datensätzen.

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Crossbeam 340 and Crossbeam 540

Your FIB-SEM for High Throughput Nanotomography and Nanofabrication

Seiten: 18
Dateigröße: 7.046 kB
Revision 23.08.2013

White Paper: Carl Zeiss Remote API

Customizing Tool Functionality Using the Remote Application Programming Interface

Seiten: 6
Dateigröße: 522 kB
Revision 23.08.2013

White Paper: Improved Gun Shot Residual Analysis Using FIB and EBSD

Combining SEM and EDS with focused ion beam (FIB) and electron backscatter diffraction (EBSD) analysis, ZEISS Crossbeam instruments can provide more accurate and reliable GSR characterization.

Seiten: 6
Dateigröße: 917 kB
Revision 26.08.2013

ZEISS Crossbeam 540

High Throughput Imaging with Crossbeam

Seiten: 5
Dateigröße: 2.006 kB
Revision 22.01.2015

X² STEM Lamella Preparation from Multicomposite Organic Electronic Devices with ZEISS FIB-SEMs

Application Note

Seiten: 6
Dateigröße: 883 kB
Revision 05.05.2015

White Paper: Efficient Separation of Secondary and Backscattered Electrons with a Single Detector

High resolution structural and compositional analysis of nano-materials in the scanning electron microscope (SEM) requires secondary electron (SE) and backscattered electron (BSE) imaging at low primary beam energies. So far, these imaging modes could only be performed using dedicated, separate detection systems for SE and BSE. The ZEISS InLensDuo detector provides separate SE and BSE detection in a single, easy to use detector system.

Seiten: 6
Dateigröße: 2.602 kB
Revision 04.06.2013

Technology Note: ZEISS Focused Ion Beam Column

Enabling Precision and long-term Stability for Cutting Edge Crossbeam Applications

Seiten: 6
Dateigröße: 1.621 kB
Revision 28.07.2015

ZEISS Crossbeam Family

High Resolution STEM and EDS Study of Chromium Depletion in Stainless Steel

Seiten: 5
Dateigröße: 1.615 kB
Revision 03.12.2015

Application Note: Multi-scale Correlative Study of Corrosion Evolution in a Magnesium Alloy

Seiten: 8
Dateigröße: 3.681 kB
Revision 31.03.2016

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