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Der Moment, in dem wir das Morgen für Sie ins Jetzt holen.

Für diesen Moment arbeiten wir.

ZEISS Prozessgas Analysator

Prozesskontrolle für verschiedene Anwendungen in Echtzeit

Das kompakte und hoch sensitive Ionenfallen-Massenspektrometer detektiert selbst kleinste Verunreinigung sowie empfindlichste Prozessparameter in Echtzeit. Es ist ein ideales Gerät zur Prozesskontrolle, Kontaminationsmessung, Forschung und Entwicklung sowie für die Fertigung.

ZEISS AIMS™ 1x-193i

Präziser, schneller und benutzerfreundlicher

Das AIMS™ 1x-193i ist ein einzigartiges Qualifizierungssystem, welches Photomaskenhersteller zum Prüfen von Defekten sowie zur Verifikation von Reparaturen einsetzen. Es kann für alle Maskentypen eingesetzt werden und ermöglicht, die optische Performance von Masken unter Belichtungsbedingungen wie im Scanner zu analysieren.

ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Halbleiterfertigungs-Optiken

Teilweise in Deutschland nicht vertrieben

Mit Lithographie-Optiken und weiteren optischen Systemen ermöglicht ZEISS Kunden weltweit die Herstellung extrem leistungsfähiger Mikrochips.

Photomaskensysteme


Unsere Photomaskensysteme dienen zur Produktion von defektfreien Photomasken für die Chipherstellung.

Prozessgas-Analyse

 

Mit dem innovativen Ionenfallen-Massenspektrometer detektieren ZEISS Kunden selbst kleinste Verunreinigungen in Echtzeit.

Produkt-Highlights

* Teilweise in Deutschland nicht vertrieben

 

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