Back To Top

Der Moment, in dem Sie dafür sorgen, dass das Herz von Millionen Geräten fehlerfrei schlägt.

Für diesen Moment arbeiten wir.

Photomaskensysteme

Bei der optischen Lithographie werden die Strukturen mehrerer Photomasken in unterschiedlicher Häufigkeit auf den Wafer aufgebracht. Das Aufspüren und Korrigieren von möglichen Defekten auf der Maske ist deshalb so wichtig, weil sich Fehler auf die Wafer übertragen würden und die Chips damit unbrauchbar wären. Eine fehlerfreie Belichtung spart daher viel Zeit und Geld.

Der Geschäftsbereich Semiconductor Metrology Systems bietet Herstellern von Photomasken geschlossene Prozesslösungen an. Die Mitarbeiter entwickeln Systeme, die Defekte auf der Photomaske analysieren und reparieren sowie spezifische Maskeneigenschaften vermessen und optimieren.

Erfahren Sie mehr über Photomaskensysteme auf der englischsprachigen Internetseite.

 

Wir verwenden Cookies auf dieser Website. Cookies sind kleine Textdateien, die von Websites auf Ihrem Computer gespeichert werden. Cookies sind weit verbreitet und helfen Seiten optimiert darzustellen und zu verbessern. Durch die Nutzung unserer Seiten erklären Sie sich damit einverstanden. mehr

OK