Geschichte der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken

  • Einleitung

    Wie alles begann

    Der Bereich Semiconductor Metrology Systems ist führend auf dem Gebiet der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken. Die Erfolgsgeschichte begann im Jahr 1994, als das Unternehmen sein erstes Aerial Image Measurement System (AIMS) für die Halbleiterindustrie auslieferte, das MSM-100. Es wird dazu verwendet, um die Funktionalität von Fotomasken zu bewerten.

    In Kooperation mit der Firma NaWoTec (heute bei ZEISS) wurde ein innovatives Verfahren eingeführt, um Defekte auf Fotomasken zu reparieren. Auf Basis einer Elektronenstrahltechnologie repariert das MeRiT System kritische Maskendefekte mit höchster Präzision. Mit dem Kauf eines Israelischen Start-up Unternehmens wurde das Portfolio um eine Femtoskundenlaser-Technologie erweitert. Darauf basierend wurden verschiedene neue Produkte entwickelt, mit denen man einzelne Parameter von Masken optimieren kann.

    Eines der neueren innovativen Lösungen ist das PROVE-System, das es Kunden ermöglicht, die Positionsgenauigkeit der Strukturen auf Fotomasken zu messen. Heute sind diese Systeme Standard in der Halbleiterindustrie.

  • 1994 - 2005

    1994

    Lieferung des ersten AIMS™-Systems: MSM 100 (g-Linie, i-Linie, DUV).

    Fotograf: Jan-Peter Kasper

    2000

    Erstes vollautomatisches Photomasken-Prüfsystem AIMS™ fab (i-Linie, 248 nm).

    2001

    Carl Zeiss SMT beginnt eine Kooperation mit der NaWoTec GmbH Rossdorf zur Bündelung ihrer Kompetenzen für die gemeinsame Entwicklung des Elektronenstrahlmasken-Reparatursystems MeRiT MG.

    2002

    Erste Lieferung des vollautomatischen AIMS™ fab 193.

    Fotograf: Jan-Peter Kasper

    2004

    Markteinführung des Reparatursystems MeRiT MG.

  • 2006 - Heute

    2006

    Erste Lieferung des AIMS™ 45-193i.

    2008

    Carl Zeiss SMT erwirbt Pixer Technology (Israel) für seine SMS-Abteilung.

    2010

    Markteinführung des PROVE®-Systems.

    2011

    Die vier Halbleiterhersteller Intel, Samsung, Globalfoundries und TSMC unterschreiben den Fördervertrag zur Unterstützung der Entwicklung des Fotomasken-Analysesystems AIMS™ EUV.

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