Geschichte der Carl Zeiss SMT GmbH

Semiconductor Manufacturing Technology

  • Wie alles begann

    Wie alles begann

    Fortschritte im Bereich der Fotoobjektive ermöglichten es Carl Zeiss in Oberkochen im Jahr 1968 für die Firma Telefunken neuartige Optiken für die Lithografie herzustellen. Im Jahr 1977 wurde das S-Planar 10/0,28 vorgestellt, das erste Objektiv, das die Fertigung von 1-µm-Strukturen mit opto-lithografischen Verfahren ermöglichte. Dies legte den Grundstein für den ersten Waferstepper.

    Die heute bestehende Partnerschaft mit der Philips-Tochter Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML) begann ebenfalls 1983 mit der Auslieferung der ersten Projektions- und Beleuchtungsoptik von ZEISS. Diese Geschäftsbeziehung wurde zu einer strategischen Partnerschaft im Geschäftsjahr 1992/93. Das neue Jahrtausend markierte für ZEISS den Beginn einer neuen Ära in der Halbleiterindustrie – vor allem mit der 193-nm-Technologie, die seit 1998 den nächsten Technologiesprung im Bereich der Lithografie-Optiken gebracht hatte. Als Folge des zunehmenden Erfolgs der ZEISS Gruppe wurde die Entscheidung getroffen, die Technologien der Licht-, Elektronen- und Ionen-Optik in einem unabhängig arbeitenden Unternehmensbereich zu bündeln.

    Im Oktober 2001 wurde die Carl Zeiss SMT GmbH mit ihren Tochterunternehmen Carl Zeiss Laser Optics GmbH, Carl Zeiss SMS GmbH und Carl Zeiss NTS GmbH gegründet (im Jahr 2010 wechselte die Carl Zeiss NTS in den Unternehmensbereich Mikroskopie). Diese brachte in den darauffolgenden Jahren zahlreiche Innovationen auf dem Gebiet der Lithografie-Optiken für die Mikrochip-Herstellung auf den Markt, u. a. das Starlith 1700i. Diese Starlith-Optik verwendet die Immersions-Methode – ein Verfahren, bei dem zwischen der letzten Linse und der Wafer-Oberfläche die Luft durch eine Flüssigkeit ersetzt wird – unter der gleichzeitigen Anwendung von Linsen- und Spiegel-Systemen. Im Jahr 2006 wurde ein neues Werk in Oberkochen offiziell eingeweiht. Es ist das weltweit modernste Entwicklungs- und Produktionszentrum für Lithografie-Optik. Das Starlith 19xxi, ab dem Jahr 2007 produziert, wurde zum größten Erfolg nicht nur in der Geschichte des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik, sondern auch bei ZEISS als das umsatzstärkste Produkt des Unternehmens. Das Jahr 2012 läutete den Übergang der EUV-Optiken (Extrem Ultraviolette Strahlung) in die Serienproduktion ein, eine neue Ära der optischen Lithografie.

  • 1896 - 1989
    Planar® lens

    1896

    Von Paul Rudolph wird das Objektiv Planar mit einer Öffnung von etwa 1:4 bei guter anastigmatischer Bildebnung und Korrektion der sphärischen und der chromatischen Aberration gerechnet.

    First Printer (Telefunken)

    1968

    ZEISS liefert erstmals ein Objektiv für einen Schaltkreisdrucker (Vorgänger der heutigen Waferstepper und -scanner) der Firma AEG-Telefunken. Es bildet Strukturen von 1,25 Mikrometern ab.

    1983

    ZEISS liefert die erste Projektions- und Beleuchtungsoptik an die niederländische Firma Philips (später wird ASML, heute strategischer Partner von ZEISS, aus dem Unternehmen ausgegliedert).

  • 1990 - 2002

    1992

    Beginn der strategischen Partnerschaft mit den niederländischen Hersteller von Wafersteppern und -scannern ASM Lithography (ASML).

    1994

    Der Unternehmensbereich Halbleitertechnik von ZEISS wird gegründet.

    Carl Zeiss SMT

    2001

    Der Unternehmensbereich Halbleitertechnik wird in vier selbstständige Unternehmen aufgegeliedert: Carl Zeiss SMT (Lithografieoptiken und Mirrorblocks), Carl Zeiss Laser Optics (Komponenten für Lithografie-Laser), Carl Zeiss SMS (Lieferant für Systeme zur Qualitätssicherung von Photomasken) und Carl Zeiss NTS (Elektronenmikroskopie-Hersteller, heute Unternehmensbereich Mikroskopie).

    2002

    ASML und ZEISS werden gemeinsam zum Weltmarkführer im Bereich Waferstepper und -scanner und bleiben es bis heute.

  • 2003 - heute
    NaWoTec

    2005

    Übernahme der Firma NaWoTec.

    2006

    Offizielle Einweihung des neuen Werks der Carl Zeiss SMT AG, dem weltweit modernsten Entwicklungs- und Produktionszentrum für Lithographieoptik.

    2008

    Übernahmen der Firma Pixer Technology (in Karmiel/Israel).

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