Geschichte der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken von ZEISS

Wie alles begann

Der Bereich Semiconductor Metrology Systems ist führend auf dem Gebiet der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken. Die Erfolgsgeschichte begann im Jahr 1994, als das Unternehmen sein erstes Aerial Image Measurement System (AIMS) für die Halbleiterindustrie auslieferte, das MSM-100. Es wird dazu verwendet, um die Funktionalität von Fotomasken zu bewerten.

In Kooperation mit der Firma NaWoTec (heute bei ZEISS) wurde ein innovatives Verfahren eingeführt, um Defekte auf Fotomasken zu reparieren. Auf Basis einer Elektronenstrahltechnologie repariert das MeRiT System kritische Maskendefekte mit höchster Präzision. Mit dem Kauf eines Israelischen Start-up Unternehmens wurde das Portfolio um eine Femtoskundenlaser-Technologie erweitert. Darauf basierend wurden verschiedene neue Produkte entwickelt, mit denen man einzelne Parameter von Masken optimieren kann.

Eines der neueren innovativen Lösungen ist das PROVE-System, das es Kunden ermöglicht, die Positionsgenauigkeit der Strukturen auf Fotomasken zu messen. Heute sind diese Systeme Standard in der Halbleiterindustrie.

Meilensteine

1994
AIMS™-Systems: MSM 100 (g-Linie, i-Linie, DUV). © ZEISS Archiv

Lieferung des ersten AIMS™-Systems: MSM 100 (g-Linie, i-Linie, DUV).

2000
Photomasken-Prüfsystem AIMS™ fab (i-Linie, 248 nm). © Jan-Peter Kasper

Erstes vollautomatisches Photomasken-Prüfsystem AIMS™ fab (i-Linie, 248 nm).

2001
Projektionsplanetarium Modell I, 1925 © ZEISS Archiv

Carl Zeiss SMT beginnt eine Kooperation mit der NaWoTec GmbH Rossdorf zur Bündelung ihrer Kompetenzen für die gemeinsame Entwicklung des Elektronenstrahlmasken-Reparatursystems MeRiT MG.

2002
vollautomatischer AIMS™ fab 193 © ZEISS Archiv

Erste Lieferung des vollautomatischen AIMS™ fab 193.

2004
Reparatursystem MeRiT MG © ZEISS Archiv

Markteinführung des Reparatursystems MeRiT MG.

2006
AIMS™ 45-193i © ZEISS Archiv

Erste Lieferung des AIMS™ 45-193i.

2008
Übernahme Pixer Technology (Israel) © ZEISS Archiv

Carl Zeiss SMT erwirbt Pixer Technology (Israel) für seine SMS-Abteilung.

2010
PROVE®-System © ZEISS Archiv

Markteinführung des PROVE®-Systems.

2011
Entwicklung des Fotomasken-Analysesystems AIMS™ EUV © ZEISS Archiv

Die vier Halbleiterhersteller Intel, Samsung, Globalfoundries und TSMC unterschreiben den Fördervertrag zur Unterstützung der Entwicklung des Fotomasken-Analysesystems AIMS™ EUV.