ZEISS bei parts2clean 2015

Mikroskopieveranstaltungen

ZEISS auf der parts2clean 2016

31. Mai - 02. Juni, Halle 5, Stand F43, Stuttgart

Wir laden Sie herzlich ein, uns auf der parts2clean 2016, der internationalen Leitmesse für industrielle Teile- und Oberflächenreinigung zu besuchen.
Informieren Sie sich über ZEISS Imaging-Systeme, die nach Ihren Bedürfnissen der Sauberkeitsprüfung konfiguriert werden. Klassifizieren Sie prozesskritische Partikel durch Licht- und Elektronenmikroskopie nach den Vorgaben des VDA Band 19.1 für die technische Sauberkeit und kombinieren Sie Ihre Daten in einem korrelativen Workflow mit Correlative Particle Analysis (CAPA).
Sichern Sie sich hier schnell und unkompliziert Ihr Ticket zur parts2clean 2016!

 

 

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