Sichern Sie sich jetzt Ihr Ticket für die parts2clean

23. - 25. Oktober 2018 in Stuttgart

Qualität braucht Perfektion

Wir laden Sie herzlich ein, uns auf der parts2clean 2018, der internationalen Leitmesse für industrielle Teile- und Oberflächenreinigung zu besuchen.
  • Verpassen Sie nicht das neue Rasterelektronenmikroskops EVO, das die Bedürfnisse industrieller Qualitätslabors perfekt abdeckt.
  • Informieren Sie sich über ZEISS Imaging-Systeme, die nach Ihren Bedürfnissen der Sauberkeitsprüfung konfiguriert werden.
  • Klassifizieren Sie prozesskritische Partikel durch Licht- und Elektronenmikroskopie nach den Vorgaben des VDA Band 19.1 für die technische Sauberkeit und kombinieren Sie Ihre Daten in einem korrelativen Workflow mit Correlative Particle Analysis (CAPA)

ZEISS EVO

Modulare REM-Plattform

Kombinieren Sie leistungsstarke Rasterelektronenmikroskopie mit einem intuitiven Bedienkonzept.

Partikelanalysesysteme

Qualitätssicherung

Messen und klassifizieren Sie Partikel, um die Sauberkeit Ihrer Produktionsprozesse zu überwachen und dokumentieren. 

Bestellen Sie sich hier Ihr kostenfreies Ticket für die parts2clean!