ORION NanoFab

• Schnelle Bearbeitung von Strukturen unter 10 nm
  Erzeugen Sie mit Neon- und Helium-Ionenstrahlen feine Strukturen unter 10 Nanometer, die eine extrem hohe Bearbeitungstreue erfordern. Ob es bei Ihrer Anwendung um Materialabtragung durch Sputtern, gasinduziertes Ätzen, Deposition oder Lithografie geht - ORION NanoFab arbeitet in der Sub-10 nm-Fabrikation schnell und präzise.
  
  
• Drei Strahlen in einem Instrument
  Verwenden Sie das Gallium-FIB zur Abtragung von massivem Material. Nutzen Sie den Neonstrahl für eine schnelle Präzisions-Nanobearbeitung oder den Heliumstrahl für die Herstellung feiner Strukturen unter 10 nm. Mit Neon- und Helium-Ionenstrahlen vermeiden Sie die Verunreinigung von Beschichtungen.
  
  
• Hoch auflösendes Imaging
  Mit einer Auflösung von 0,5 nm erzeugt ORION NanoFab hochauflösende Bilder Ihrer Probe mit demselben Instrument, das für die Fertigung verwendet wurde. Erhalten Sie neue Einblicke durch Bilder mit einer 5- bis 10mal größeren Schärfentiefe im Vergleich zu Bildern, die mit FE-SEMs aufgenommen wurden.
  
  

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Orion NanoFab ist mit der NanoPatterning- und Visualization Engine, einem integrierten Hard- und Softwaresteuerungssystem, ausgestattet. NVPE beinhaltet einen speziellen 16 Bit-Scan-Generator für jede NanoFab-Säule und eine duale Signalerfassungs-Hardware, die erweitertes Echtzeit-Patterning und Visualisierung unterstützt. Steuern Sie den Strahl vollständig über eine GUI: Erzeugen Sie eine Reihe voll editierbarer Formen wie Rechtecke, Trapeze, Vielecke, Linien, Polylinien, Ellipsen und Punkte. Füllen Sie diese Formen, während Sie die volle Kontrolle über Dosisänderungs- und Patterning-Parameter behalten.

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