ZEISS Feldemissionsrasterelektronenmikroskope verbessern Subnanometer-Bildgebung, Analytik und Probenflexibilität

ZEISS präsentiert drei neue ZEISS GeminiSEM Modelle und eine neue ZEISS Gemini 3 Elektronenoptik

Jena, Deutschland | 23. November 2020 | ZEISS Research Microscopy Solutions

ZEISS präsentiert eine neue Generation seiner Feldemissions-Rasterelektronenmikroskope (FE-REM) - ZEISS GeminiSEM. Die neuen Modelle ZEISS GeminiSEM 360, 460 und 560 erreichen Sub-Nanometer Auflösung und vereinfachen die Analytik beliebiger Proben. Anwender profitieren bei der Abbildung empfindlichster Proben von besserer Bildqualität, einfacher Bedienbarkeit und hoher Flexibilität. Mit dem Modell ZEISS GeminiSEM 560 kommt auch erstmals die neue Elektronenoptik ZEISS Gemini 3 auf den Markt.

Die neue ZEISS GeminiSEM-Familie liefert mehr Informationen zu jeder Probe, minimiert Probenschädigungen und verhindert Probenartefakte. Alle drei Modelle verfügen über ein völlig neues Design der Probenkammer, in die Forscher größere und mehr Proben als zuvor einbringen können. Somit können Wissenschaftler mit einem einzigen Instrument eine Vielzahl analytischer Anwendungen durchführen. Die einzigartigen Designs der Elektronenoptik ZEISS Gemini erfüllen in Verbindung mit der neuen großen und flexiblen Kammer alle Anforderungen für Bildgebung und Analytik. Die größere Kammer verbessert die Konfigurierbarkeit und Flexibilität für zukünftige Forschungsaufgaben und optimiert analytische Arbeitsabläufe.

ZEISS GeminiSEM Familie: Feldemissions-REMs für hohe Anforderungen an Subnanometer-Bildgebung, Analytik und Probenflexibilität © ZEISS
ZEISS GeminiSEM Familie: Feldemissions-REMs für hohe Anforderungen an Subnanometer-Bildgebung, Analytik und Probenflexibilität

Neue Elektronenoptik und Smart Autopilot

ZEISS GeminiSEM 560 setzt einen neuen Standard für die Oberflächenabbildung. Die Einführung der ZEISS Gemini 3 Elektronenoptik mit Nano-twin-Objektivlinse und Smart Autopilot ermöglicht die Abbildung empfindlicher Proben in sehr hohen Auflösungen. Das Modell 560 der ZEISS GeminiSEM-Familie erreicht die höchste Auflösung an allen Arbeitspunkten und verschiebt die Grenzen der immersionsfreien und Niederspannungsabbildung. Das System ermöglicht magnetfeldfreie Abbildungen unter einem Kilovolt.

Nanometer-skalierte Merkmale auf einer aufgebrochenen Oberfläche eines nicht leitenden Minerals, Montmorillonit, sichtbar gemacht mit niedriger Landeenergie, ZEISS GeminiSEM 560, Inlens SE-Bild, 800 V, Maßstab 200 nm
Nanometer-skalierte Merkmale auf einer aufgebrochenen Oberfläche eines nicht leitenden Minerals, Montmorillonit, sichtbar gemacht mit niedriger Landeenergie, ZEISS GeminiSEM 560, Inlens SE-Bild, 800 V, Maßstab 200 nm

Das neue elektronenoptische Design verbessert zusammen mit neuen Autofunktionen und dem patentierten Autofokus den Leistungsumfang und die Effizienz des Systems erheblich. In Forschungseinrichtungen können selbst unerfahrene Benutzer ohne die Unterstützung der verantwortlichen Wissenschaftler oder Projektleiter beste Ergebnisse erzielen.

Höhere Effizienz und Benutzerfreundlichkeit bei Bildgebung und Analyse

Der Wechsel von Standard zu fortgeschrittenen Einstellungen ist für Benutzer mühelos möglich. Ein neuer Übersichtsmodus vereinfacht die Orientierung auf der Probe. Benutzer können zudem ganz einfach von geringer zu hoher Vergrößerung wechseln, ohne die elektronenoptische Säule justieren zu müssen.
Das System ermöglicht das größte verzerrungsfreie Bildfeld seiner Klasse. Somit ist die Abbildung großer und herausfordernder Proben wie magnetischer Materialien möglich. Die patentierten Autofunktionen sind derzeit die schnellsten der Welt. Der Autofokus erzeugt in weniger als seiner Sekunde ein scharfes Bild.

Magnetische Eisen-Mangan-Nanopartikel, von denen eines der quaderförmigen Partikel eine Kantenlänge von ungefähr 25 nm aufweist und bei niedriger Beschleunigungsspannung abgebildet wird, ZEISS GeminiSEM 560, Inlens SE-Bild, 1 kV, Maßstab 60 nm.
Magnetische Eisen-Mangan-Nanopartikel, von denen eines der quaderförmigen Partikel eine Kantenlänge von ungefähr 25 nm aufweist und bei niedriger Beschleunigungsspannung abgebildet wird, ZEISS GeminiSEM 560, Inlens SE-Bild, 1 kV, Maßstab 60 nm.

„Diese Produkteinführung definiert die High-End-FE-REM-Bildgebung neu. Sie bringt die Entwicklung der branchenführenden Gemini-Optik weiter voran und ermöglicht Kunden, wissenschaftliche Durchbrüche zu erreichen“, kommentiert Dr. Michael Albiez, Leiter ZEISS Research Microscopy Solutions.

Webinar zum Produktlaunch – jetzt anmelden

Zur Einführung des Systems sind Interessierte am 15. Dezember zu einem kostenlosen Webinar eingeladen. Beim digitalen Herbsttreffen der Materials Research Society MRS wird das System virtuell vorgestellt. Jeder kann über das Internet an der Vorstellung teilnehmen. 

Zur Anmeldung 

Pressekontakt

Vybhav Sinha
ZEISS Research Microscopy Solutions
Telefon: +49 3641 64-3949
vybhav .sinha @zeiss .com

Über ZEISS

ZEISS ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen der optischen und optoelektronischen Industrie. In den vier Sparten Semiconductor Manufacturing Technology, Industrial Quality & Research, Medical Technology und Consumer Markets erwirtschaftete die ZEISS Gruppe zuletzt einen Jahresumsatz von über 6,4 Milliarden Euro (Stand: 30.9.2019).

ZEISS entwickelt, produziert und vertreibt für seine Kunden hochinnovative Lösungen für die industrielle Messtechnik und Qualitätssicherung, Mikroskopielösungen für Lebenswissenschaften und Materialforschung sowie Medizintechniklösungen für Diagnostik und Therapie in der Augenheilkunde und der Mikrochirurgie. ZEISS steht auch für die weltweit führende Lithographieoptik, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen von der Chipindustrie verwendet wird. ZEISS Markenprodukte wie Brillengläser, Fotoobjektive und Ferngläser sind weltweit begehrt und Trendsetter.

Mit diesem auf Wachstumsfelder der Zukunft wie Digitalisierung, Gesundheit und Industrie 4.0 ausgerichteten Portfolio und einer starken Marke gestaltet ZEISS den technologischen Fortschritt mit und bringt mit seinen Lösungen die Welt der Optik und angrenzende Bereiche weiter voran. Grundlage für den Erfolg und den weiteren kontinuierlichen Ausbau der Technologie- und Marktführerschaft von ZEISS sind die nachhaltig hohen Aufwendungen für Forschung und Entwicklung.

Mit über 31.000 Mitarbeitern ist ZEISS in fast 50 Ländern mit rund 30 Produktionsstandorten, 60 Vertriebs- und Servicestandorten sowie 25 Forschungs- und Entwicklungsstandorten weltweit aktiv. Hauptstandort des 1846 in Jena gegründeten Unternehmens ist Oberkochen, Deutschland. Alleinige Eigentümerin der Dachgesellschaft, der Carl Zeiss AG, ist die Carl-Zeiss-Stiftung, eine der größten deutschen Stiftungen zur Förderung der Wissenschaft.

Weitere Informationen unter www.zeiss.de

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ZEISS Research Microscopy Solutions bietet als weltweit einziger Hersteller Licht-, Elektronen-, Röntgen- und Ionenmikroskopsysteme aus einer Hand sowie Lösungen für korrelative Mikroskopie. Das Portfolio umfasst Produkte und Services sowohl für Biowissenschaften, Material- und industrielle Forschung als auch für Ausbildung und klinische Praxis. Hauptsitz des Bereichs ist Jena. Weitere Produktions- und Entwicklungsstandorte sind in Oberkochen und München sowie in Cambridge (Großbritannien) und Pleasanton (USA). ZEISS Research Microscopy Solutions ist Teil der Sparte Industrial Quality & Research.

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