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Carl Zeiss SMT und ASML vertiefen Partnerschaft zur Entwicklung der nächsten EUV-Lithographie-Generation für die Chipindustrie

Carl Zeiss SMT und ASML wollen ihre langfristige und erfolgreiche Partnerschaft im Halbleiter-Geschäft vertiefen. Ziel der Vereinbarung ist es, die Entwicklung einer zukünftigen Generation der Extreme Ultraviolet (EUV)-Lithographie-Systeme zu beschleunigen. Die Technologie soll die Halbleiterindustrie in die Lage versetzen, zu Beginn der nächsten Dekade wesentlich leistungsfähigere Mikrochips zu geringeren Kosten produzieren zu können. weiterlesen

ZEISS investiert weitere 60 Mio. Euro in die Erweiterung des Halbleitertechnik-Werks

Das weltweit modernste Zentrum für Lithographie-Optik soll weiter wachsen: Die ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (Halbleitertechnik, SMT) plant, ihre Fertigungsmöglichkeiten im interkommunalen Gewerbegebiet Oberkochen/Königsbronn zu erweitern. Ein entsprechender Bauantrag wurde beim zuständigen Gemeinderat eingereicht. weiterlesen

Presse-Kontakt

Carl Zeiss SMT GmbH
Ilka Hauswald
Leiterin Communication and Implementation of Group
Initiatives
ilka .hauswald @zeiss .com
Telefon: +49 7364 20-9231

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