Winfried Kaiser mit dem SPIE Frits Zernike Award for Microlithography ausgezeichnet

Ehrung für jahrzehntelanges Engagement für die Halbleiterindustrie

Oberkochen, San José/USA | 26. Februar 2020 | Semiconductor Manufacturing Technology

Winfried Kaiser, Leiter Produktstrategie der ZEISS Halbleitersparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) und in höchster Stufe der Fachlaufbahn Fellow des Unternehmens, ist mit dem Frits Zernike Award for Microlithography 2020 der Internationalen Gesellschaft für Optik und Photonik (SPIE) ausgezeichnet worden. Kaiser nahm den Preis im Rahmen der Fachmesse SPIE Advanced Lithography in San José, Kalifornien entgegen. Der Award gilt als höchste Auszeichnung in der Mikrolithographie.

Kaiser initiierte vor 25 Jahren die Einführung des Entwicklungsprogramms für die Lithographie mit extrem ultraviolettem Licht (EUV) in Europa. Als revolutionäre Fertigungstechnologie ermöglicht EUV-Lithographie mit einer Lichtwellenlänge von 13,5 Nanometern seit 2019 die Serienproduktion von enorm leistungsfähigen Mikrochips mit feinsten Strukturen. Kaiser war zudem eine Schlüsselfigur in der Entwicklung von Lithographie-Technologien wie Deep-Ultraviolett-(DUV)-Systeme, die heute Industriestandard sind – insbesondere die Lithographie mit Lichtwellenlängen von 248 und 193 Nanometer sowie die Immersionslithographie.

Dr. John Greivenkamp, Präsident der SPIE, würdigte: „Winfried Kaiser hat mit seinem technischen Know-how und seinem beispielhaften Engagement die Weiterentwicklung modernster lithografischer optischer Systeme vorangetrieben, einschließlich der EUV-Lithographie, die die Fortführung des Moore’schen Gesetzes ermöglicht. ZEISS entwickelt und produziert unter anderem solche Lithographie-Optiken, die als Teil von Waferscannern für die Herstellung immer leistungsfähigerer Mikrochips eingesetzt werden.

Prof. Dr. Michael Kaschke, Vorstandsvorsitzender von ZEISS, gratulierte Kaiser zu seinem Erfolg: „Winfried Kaiser hat sich in mehr als 35 Jahren die Rolle eines Gestalters und Ideengebers erarbeitet, der die Chancen des Marktes erkennt und höchstes Ansehen in internationalen Fachkreisen genießt. Dies hat zum globalen Renommee von ZEISS als Technologie- und Marktführer der Lithographie-Optik beigetragen und zu hoher wirtschaftlichen Wertschöpfung in Innovationsbereichen wie die EUV-Technologie geführt.“

Dr. Markus Weber, Mitglied des ZEISS Vorstands und Leiter der Sparte SMT ergänzte: „Herzlichen Glückwunsch an Winfried Kaiser für die Auszeichnung seiner herausragenden Leistungen im Bereich der Mikrolithographie – eine besondere Ehre, die bisher nur einem auserwählten Gewinnerkreis zuteilwurde und ein bedeutender Award für einen ganz besonderen Kollegen, ohne den es die SMT, so wie sie heute ist, wohl nicht geben würde. Alle ZEISS Lithographie-Optiken basieren auf seiner Produktstrategie und seinen Initiativen, die ein tiefes Verständnis der Hochleistungsoptiken, ihrer Anwendung und seinem Gespür für die Bedürfnisse eines dynamischen Marktes und dessen Kunden erfordern.“

Winfried Kaiser honored with the SPIE Frits Zernike Award for Microlithography
Bei der Award-Verleihung (v.l.): Will Conley, SPIE Fellow und Manager bei ASML-Cymer; Winfried Kaiser; Dr. Chris A. Mack, SPIE Board of Directors und CTO von Fractilia LLC; Dr. Bruce W. Smith, SPIE Fellow und Professor am Rochester Institute of Technology; Dr. Kafai Lai SPIE Fellow aus dem IBM T.J. Watson Research Center; Foto: © SPIE / Marty Moehl

Winfried Kaiser kommentierte bei der Preisverleihung: „Ich freue mich sehr über die hohe Auszeichnung. Der Award ehrt jedoch nicht nur mich persönlich, sondern auch das gesamte ZEISS Team und Management sowie unseren strategischen Partner ASML. Mit dem Preis werden unsere richtungsweisenden Entwicklungen in der optischen Lithographie wie EUV international honoriert – das erfüllt mich mit Stolz.“

Kaiser trat 1982 nach seinem Physik-Studium bei ZEISS ein und ist nach mehreren Stationen unter anderem als Leiter des Labors für Halbleiterentwicklung und der Produktentwicklung seit 2003 Leiter der Produktstrategie Lithographie-Optik. 2007 wurde Winfried Kaiser zum ersten Fellow der ZEISS Gruppe ernannt – die höchste Stufe der Fachlaufbahn. Ein Jahr später ernannte die SPIE Winfried Kaiser zum SPIE Fellow. Im Jahr 2014 wurde Kaiser mit dem SEMI Sales and Marketing Excellence Award ausgezeichnet.

Er ist der 16. Preisträger des SPIE Frits Zernike Awards für Mikrolithographie, der seit dem Jahr 2004 vergeben wird und den unter anderem auch Martin van den Brink, Co-President & Chief Technology Officer von ASML 2008 erhalten hat. Der Namensgeber des Awards Frits Zernike war ein niederländischer Chemiker, Physiker und Mathematiker, der 1953 für die Erfindung des Phasenkontrastmikroskops den Nobelpreis für Physik erhielt. Mit den SPIE-Awards werden herausragende Beiträge von Einzelpersonen aus der Wissenschaft anerkannt und geehrt.

Pressekontakt

Ilka Hauswald
Semiconductor Manufacturing Technology
Telefon: +49 7364 20-9231
ilka .hauswald @zeiss .com

Über ZEISS

ZEISS ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen der optischen und optoelektronischen Industrie. In den vier Sparten Semiconductor Manufacturing Technology, Industrial Quality & Research, Medical Technology und Consumer Markets erwirtschaftete die ZEISS Gruppe zuletzt einen Jahresumsatz von über 6,4 Milliarden Euro (Stand: 30.9.2019).

ZEISS entwickelt, produziert und vertreibt für seine Kunden hochinnovative Lösungen für die industrielle Messtechnik und Qualitätssicherung, Mikroskopielösungen für Lebenswissenschaften und Materialforschung sowie Medizintechniklösungen für Diagnostik und Therapie in der Augenheilkunde und der Mikrochirurgie. ZEISS steht auch für die weltweit führende Lithographieoptik, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen von der Chipindustrie verwendet wird. ZEISS Markenprodukte wie Brillengläser, Fotoobjektive und Ferngläser sind weltweit begehrt und Trendsetter.

Mit diesem auf Wachstumsfelder der Zukunft wie Digitalisierung, Gesundheit und Industrie 4.0 ausgerichteten Portfolio und einer starken Marke gestaltet ZEISS den technologischen Fortschritt mit und bringt mit seinen Lösungen die Welt der Optik und angrenzende Bereiche weiter voran. Grundlage für den Erfolg und den weiteren kontinuierlichen Ausbau der Technologie- und Marktführerschaft von ZEISS sind die nachhaltig hohen Aufwendungen für Forschung und Entwicklung.

Mit über 31.000 Mitarbeitern ist ZEISS in fast 50 Ländern mit rund 30 Produktionsstandorten, 60 Vertriebs- und Servicestandorten sowie 25 Forschungs- und Entwicklungsstandorten weltweit aktiv. Hauptstandort des 1846 in Jena gegründeten Unternehmens ist Oberkochen, Deutschland. Alleinige Eigentümerin der Dachgesellschaft, der Carl Zeiss AG, ist die Carl-Zeiss-Stiftung, eine der größten deutschen Stiftungen zur Förderung der Wissenschaft.

Weitere Informationen unter www.zeiss.de

Semiconductor Manufacturing Technology

Die Sparte Semiconductor Manufacturing Technology deckt mit ihrem Produktportfolio und weltweit führendem Know-how verschiedene Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips ab. Zu den Produkten des Bereichs zählen Halbleiterfertigungs-Optiken – darunter Lithographie-Optiken –, Photomaskensysteme sowie Prozesskontroll-Lösungen für die Halbleiterindustrie. Dank der Technologien werden Mikrochips zunehmend kleiner, leistungsfähiger, energieeffizienter und preiswerter. Die damit ausgestatteten elektronischen Anwendungen ermöglichen globalen Fortschritt in verschiedenen Disziplinen, darunter Technologie, Elektronik, Kommunikation, Unterhaltung, Mobilität und Energie. Hauptsitz von Semiconductor Manufacturing Technology ist Oberkochen. Weitere Standorte der Sparte sind Jena, Roßdorf und Wetzlar in Deutschland sowie Bar Lev (Israel), Pleasanton und Peabody (USA).

Über SPIE

SPIE ist die internationale Gesellschaft für Optik und Photonik mit Sitz in Bellingham (Washington, USA) und wurde 1955 gegründet, um lichtbasierte Technologien voranzutreiben. Die gemeinnützige Organisation fördert mit ihren 255.000 Mitgliedern aus 183 Ländern neue Technologien durch den interdisziplinären Informationsaustausch sowie wissenschaftliche Veröffentlichungen und Weiterbildungen. SPIE veranstaltet und ist Partner von zahlreichen bedeutenden Konferenzen in Nordamerika, Europa, Asien und im Südpazifik, auf denen mehr als 35.000 Wissenschaftler, Ingenieure und Unternehmer Innovationen aus diversen Optik-Technologiebereichen und deren Anwendung präsentieren und sich austauschen.

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