Lithographie bei 13,5 Nanometern (EUV) – In Deutschland nicht vertrieben

Die Zukunft wird schon heute Realität: Durch die innovative EUV-Lithographie mit extrem ultraviolettem Licht können erstmals Strukturen von weniger als 20 Nanometern auf Wafern abgebildet werden. Die ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology setzt ihr gesamtes Wissen und Können ein, um diesen Technologiesprung zu erreichen.

Größte Herausforderung ist die Tatsache, dass EUV-Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern von allen bekannten Materialien und selbst von Luft stark absorbiert wird. Daraus entsteht die Notwendigkeit für ein komplett neues Gesamtkonzept der Lithographie-Optiken.

 

Für ZEISS ist EUV der Schlüssel zur Nano-Technologie von morgen.

Starlith® EUV-Optik

Die Starlith® EUV-Optik von ZEISS ist die erste mit EUV-Licht betriebene Lithographie-Optik der Welt, die in Serie produziert wird. Damit gehen wir den nächsten Schritt in Richtung Zukunft der Lithographie.

Zukunft der Lithographie-Optiken

Technologischer Fortschritt und Vorsprung vor unseren Wettbewerbern treibt uns an: Deshalb entwickeln wir unsere Lithographie-Optiken dauerhaft weiter. Immer an der Spitze des Fortschritts zu sein, ist unser Anspruch.