Lithographie bei 193 Nanometern (ArF) – in Deutschland nicht vertrieben

ZEISS stellt Lithographie-Optiken her, die mit DUV-Licht (Deep Ultraviolet) der Lichtwellenlänge 193 Nanometer betrieben werden – mit oder ohne Immersion. Das Licht beider Systemtypen wird durch Excimerlaser mit Argonfluorid (ArF) erzeugt.

Als Teil der Waferstepper und Waferscanner unseres strategischen Partners ASML sind 193-Nanometer-Optiken bei Chipherstellern weltweit im Einsatz.

ArF immersion: Starlith® 1950i

Das Starlith® 1950i von ZEISS ist eines der erfolgreichsten ZEISS Produkte und arbeitet mit der Immersionstechnologie.

Die Immersionslithographie nutzt den Einschluss einer Flüssigkeit zwischen Wafer und Optik, um den Strahlengang signifikant zu verändern. So erhöhen sich Tiefenschärfe und Auflösung. ZEISS war der erste Hersteller weltweit, der dieses Prinzip zur Produktionsreife brachte.

Mit dem ersten Prototyp einer Immersionsoptik 2003 änderte ZEISS die Roadmap der optischen Lithographie. Galt zuvor noch die 157-Nanometer-Lithographie als Technologie der Wahl, um das Moore'sche Gesetz weiterzuführen, setzte sich nun die Immersionslithographie durch.

Das Starlith® 1950i ermöglicht Auflösungen von unter 40 Nanometern und bietet Chipherstellern als Teil des ASML-Waferscanners zahlreiche Zusatzoptionen zur Prozessoptimierung.

Das Starlith® 1950i ist das umsatzstärkste Produkt, das ZEISS jemals auf den Markt gebracht hat.

ArF dry: Starlith® 1460

Das Starlith® 1460 von ZEISS ist eine Lithographie-Optik der Wellenlänge 193 Nanometer in der Ausführung als „trockenes“ (dry) System.

Das Starlith® 1460 gehört zur Reihe der Starlith®-1400-Systeme von ZEISS und ist eine Fortentwicklung der Vorgängermodelle. Es arbeitet auf herkömmlichen Weg ohne Immersion.

Auch hier wird die 193-Nanometer-Technologie genutzt. Das Starlith® 1460 wird weltweit in der Volumenproduktion von Mikrochips eingesetzt.

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