Lithographie bei 248 Nanometern (KrF) – in Deutschland nicht vertrieben

Diese Lithographie-Optiken basieren auf der Nutzung von DUV-Licht (Deep Ultraviolet) der Wellenlänge 248 Nanometer. Die Lichtwellenlänge wird von einem Excimerlaser mit Kryptonfluorid (KrF) erzeugt.

Starlith® 860

Die Lithographie-Optik Starlith® 860 von ZEISS ist eine der meistverkauften Optiken des ZEISS Unternehmensbereichs Semiconductor Manufacturing Technology. Bei einer Belichtungswellenlänge von 248 Nanometern ermöglicht es heute Auflösungen von 110 bis 90 Nanometern.

Starlith® 1000

Das Starlith® 1000 von ZEISS ist ebenfalls ein Volumenprodukt. Es arbeitet mit einer Lichtwellenlänge von 248 Nanometern und erreicht Auflösungen von bis zu 80 Nanometern.