Lithographie bei 365 Nanometern (I-Line) – in Deutschland nicht vertrieben

Lithographie-Optiken des Typs I-Line nutzen UV-Licht (Ultraviolet) mit einer Belichtungswellenlänge von 365 Nanometern. Bei dieser Optik kommt eine Hochdruck-Quecksilber-Dampflampe zum Einsatz.

I-Line: Starlith® 400

Das Starlith® 400 von ZEISS arbeitet mit der Wellenlänge 365 Nanometer und findet zum Beispiel bei der Strukturierung von Kontaktierungslayern Anwendung. Die Optik ermöglicht dabei Strukturen von 220 Nanometern.