Über optische Lithographie

Die meisten der Geräte, die heute unseren Alltag bestimmen – darunter Computer, Handys, Autos und Haushaltsgeräte – enthalten Mikrochips für elektronische Anwendungen. Die Grundlage für die Belichtung von Mikrochips bildet die optische Lithographie: Sie ist der Schlüssel zum Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik.

Denn nur mittels dieses Verfahrens ist es möglich, Strukturen für die Leiterbahnen auf die Wafer aufzubringen, aus denen später die Mikrochips entstehen. Lithographie-Optiken von ZEISS führen diesen entscheidenden Schritt bei der Produktion von Chips durch.
 

Zwei Schlüsselkomponenten

Der Begriff Lithographie-Optik steht dabei stets für die zwei Komponenten, aus denen diese aufgebaut ist: Projektionsoptik und Beleuchtung. Die Beleuchtung leistet die optimale Ausleuchtung der Photomaske. Als Lichtquelle dient ein Laser, dessen Strahlen durch ein spezielles System von Linsen und Spiegeln gelenkt werden. Mittels der Projektionsoptik werden dann die gewünschten Strukturen auf den Wafer aufgebracht. Aus diesen Strukturen entstehen in weiteren Prozessschritten die Schaltkreise.

Steigerung der Leistungsfähigkeit

Der ZEISS Unternehmensbereich Semiconductor Manufacturing Technology versteht sich als konsequenter Fortführer des Moore'schen Gesetzes. Immer kleiner, leistungsfähiger, schneller und energieeffizienter: Das ist der Anspruch an Mikrochips. Die stetige Weiterentwicklung der optischen Lithographie bei ZEISS seit fast 45 Jahren hat es den Chipherstellern weltweit ermöglicht, diesem Anspruch gerecht zu werden.