Über optische Lithographie

Die meisten der Geräte, die heute unseren Alltag bestimmen – darunter Computer, Handys, Autos und Haushaltsgeräte – enthalten Mikrochips für elektronische Anwendungen. Die Grundlage für die Belichtung von Mikrochips bildet die optische Lithographie: Sie ist der Schlüssel zum Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik.

Denn nur mittels dieses Verfahrens ist es möglich, Strukturen für die Leiterbahnen auf die Wafer aufzubringen, aus denen später die Mikrochips entstehen. Lithographie-Optiken von ZEISS führen diesen entscheidenden Schritt bei der Produktion von Chips durch.
 

Zwei Schlüsselkomponenten

Der Begriff Lithographie-Optik steht dabei stets für die zwei Komponenten, aus denen diese aufgebaut ist: Projektionsoptik und Beleuchtung. Die Beleuchtung leistet die optimale Ausleuchtung der Photomaske. Als Lichtquelle dient ein Laser, dessen Strahlen durch ein spezielles System von Linsen und Spiegeln gelenkt werden. Mittels der Projektionsoptik werden dann die gewünschten Strukturen auf den Wafer aufgebracht. Aus diesen Strukturen entstehen in weiteren Prozessschritten die Schaltkreise.

Steigerung der Leistungsfähigkeit

Die ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology versteht sich als konsequenter Fortführer des Moore'schen Gesetzes. Immer kleiner, leistungsfähiger, schneller und energieeffizienter: Das ist der Anspruch an Mikrochips. Die stetige Weiterentwicklung der optischen Lithographie bei ZEISS seit fast 45 Jahren hat es den Chipherstellern weltweit ermöglicht, diesem Anspruch gerecht zu werden.

 

Sie wollen mehr über optische Lithographie erfahren?

Als weltweiter Technologieführer für Lithographie-Optik und Ausrüster für die Halbleiterfertigung prägt ZEISS das Zeitalter der Nanoelektronik. So ermöglicht ZEISS die Fortführung des Moore'schen Gesetzes und damit den stetigen Fortschritt der Halbleiterindustrie.


Bernd Geh | The Key of Micro- and Nanoelectronics: Basics of Photolithography Optics

Photolithographie ist eine Schlüsseltechnologie mit inspirierenden Anwendungen – etwa bei der Herstellung immer leistungsfähigerer Mikrochips. Erfahren Sie alles Wissenswerte über die Welt der Nanoelektronik in dieser Aufzeichnung von Bernd Geh's Vortrag "The Key of Micro- and Nanoelectronics". Die sechs Videos geben Ihnen einen Einblick in die Grundlagen der Photolithographie. Die Lernvideos wurden im Rahmen des Important Project of Common European Interest (IPCEI) erstellt.

Hinweis: Die Videos sind auf Englisch.

► Teil 1: Introduction • General introduction into the semiconductor industry • Moore‘s Law and economic implications

► Teil 2: Photolithography Basics
► Teil 3: Photoresist
► Teil 4: Imaging Process
► Teil 5: Metrics for Lithography
► Teil 6: Resolution Enhancement

 

 

Dr. Sascha Migura | Semiconductor Optics: Extreme Ultraviolet Lithography Optics

Lernen Sie in dieser Aufzeichnung des Vortrags von Dr. Sascha Migura zum Thema "Semiconductor Optics: Extreme Ultraviolet Lithography" die wichtigsten Aspekte über moderne Optiken für Nanoelektronik kennen. Die drei Videos geben Ihnen einen ersten Einblick in die Halbleiteroptik für die Extrem-Ultraviolett (EUV)-Lithographie. Erfahren Sie mehr über die Entwicklung der optischen Systeme für die EUV-Lithographie und deren Herstellungsprozesse, die eine kontinuierliche Verbesserung der Auflösung ermöglichen. Die Lernvideos wurden im Rahmen des Important Project of Common European Interest (IPCEI) erstellt.

Hinweis: Die Videos sind auf Englisch.


►Teil 1: How Extreme Ultraviolet Lithography works