Achieving excellent yield with holistic photomask solutions

ZEISS Semiconductor Mask Solutions

Photomaskensysteme

Bei der optischen Lithographie werden die Strukturen mehrerer Photomasken in unterschiedlicher Häufigkeit auf den Wafer aufgebracht. Das Aufspüren und Korrigieren von möglichen Defekten auf der Maske ist deshalb so wichtig, weil sich Fehler auf die Wafer übertragen würden und die Chips damit unbrauchbar wären. Eine fehlerfreie Belichtung spart daher viel Zeit und Geld.

ZEISS Semiconductor Mask Solutions (SMS) bietet Herstellern von Photomasken geschlossene Prozesslösungen an. Die SMS entwickelt Systeme, die Defekte auf der Photomaske analysieren und reparieren sowie spezifische Maskeneigenschaften vermessen und optimieren.
Erfahren Sie mehr über Photomaskenlösungen auf der englischsprachigen Internetseite.

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