innovationMADE BY ZEISS

Achieving excellent yield with connected mask solutions.

ZEISS Semiconductor Metrology Systems

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Photomaskensysteme

Bei der optischen Lithographie werden die Strukturen mehrerer Photomasken in unterschiedlicher Häufigkeit auf den Wafer aufgebracht. Das Aufspüren und Korrigieren von möglichen Defekten auf der Maske ist deshalb so wichtig, weil sich Fehler auf die Wafer übertragen würden und die Chips damit unbrauchbar wären. Eine fehlerfreie Belichtung spart daher viel Zeit und Geld.

Der Geschäftsbereich Semiconductor Metrology Systems bietet Herstellern von Photomasken geschlossene Prozesslösungen an. Die Mitarbeiter entwickeln Systeme, die Defekte auf der Photomaske analysieren und reparieren sowie spezifische Maskeneigenschaften vermessen und optimieren.

Erfahren Sie mehr über Photomaskensysteme auf der englischsprachigen Internetseite.

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