Auf die Dimension von Deutschland vergrößert, würden sie an jedem beliebigen Punkt nur eine maximale Abweichung von 0,1 Millimeter aufweisen. Diese Präzision lässt es zu, eine über die Optiken abgebildete Maske so exakt zu verkleinern, dass die Maskenstrukturen nanometergenau in den Wafer geschrieben werden können, woraus Chiphersteller die neueste Generation von Mikrochips fertigen.

Diese Technologie fügt der ZEISS Partner ASML zu einem Gesamtsystem zusammen: zur EUV-Lithographie-Maschine. Darin enthalten: Die hochpräzisen ZEISS Optiken. Der Schulbus-große EUV-Scanner besteht aus über 100.000 Einzelteilen und ist eine der komplexesten Maschinen, die je gebaut wurden. Eine zentrale Komponente des hochpräzisen Optiksystems ist die Beleuchtungseinheit. Und dass diese die extrem engen Spezifikationen erreicht, ist die aktuelle Aufgabe von Ondrej.