ThinProcess® Familie Spektrometer-Systeme zur Inline-Prozessüberwachung

ZEISS ThinProcess® P  ist ein ein- oder mehrkanaliges Messsystem zur Bestimmung der optischen Eigenschaften nach einem oder mehreren Beschichtungsschritten. Die diskreten Substrate werden automatisch identifiziert und die Lücken zur automatischen Auslösung und Referenzierung verwendet. Die Messung kann unter Vakuum oder unter Atmosphäre durchgeführt werden.

✔  Messungen der spektralen Transmission und Reflexion von 360 nm bis 1050 nm
✔  Berechnungen und Analysen von Farbe, Schichtdicke, Spektrenauswertung, Absorbanz / Absorptanz, solarer Charakteristik und mehr
✔  Erweiterter Wellenlängenbereich bis 1650 nm
✔  Schichtwiderstandsmessungen

ZEISS ThinProcess® Q  ist ein traversierendes Messsystem, das die optischen und spektroskopischen Eigenschaften des Endprodukts bestimmt. Das System bietet mehrere automatische Scanmodi zur Messung vordefinierter Positionen auf dem Endprodukt.

✔  Messungen der spektralen Transmission und Reflexion von 360 nm bis 1050 nm
✔  Berechnungen und Analysen von Farbe, Schichtdicke, Spektrenauswertung, Absorbanz / Absorptanz, solarer Charakteristik und mehr
✔  Erweiterter Wellenlängenbereich bis 1650 oder 2150 nm
✔  Farbmessungen mit einem Neigungswinkel von 55°

ZEISS ThinProcess®  R  ist ein ein- oder mehrkanaliges Messsystem zur Bestimmung der optischen Eigenschaften nach einem oder mehreren Beschichtungsschritten.
Das System kann über digitale E/A- oder Feldbussignale gesteuert werden, um die Messung und die Referenzierung zu aktivieren.
Ideal also, wenn die Lücken zwischen den Scheiben zu klein sind oder die Prozessgeschwindigkeit für eine automatische Erkennung zu hoch ist.
Die Messung kann unter Vakuum oder unter Atmosphäre durchgeführt werden.

✔  Messungen der spektralen Transmission und Reflexion von 360 nm bis 1050 nm
✔  Berechnungen und Analysen von Farbe, Schichtdicke, Spektrenauswertung, Absorbanz / Absorptanz, solarer Charakteristik und mehr
✔  Erweiterter Wellenlängenbereich von 365 nm bis 1650 nm oder 2150 nm
✔  Schichtwiderstandsmessungen

ZEISS ThinProcess®  WEB  ist ein ein- oder mehrkanaliges Messsystem zur Bestimmung der optischen Eigenschaften nach einem oder mehreren Beschichtungsschritten in Bandbeschichtungsanlagen. Das Messsystem kann vollständig in die Automatisierungsstrategie der Maschine integriert werden. Die Messung kann unter Vakuum oder unter Atmosphäre durchgeführt werden.

✔  Messungen der spektralen Transmission und Reflexion von 360 nm bis 1050 nm
✔  Berechnungen und Analysen von Farbe, Schichtdicke, Spektrenauswertung, Absorbanz / Absorptanz, solarer Charakteristik und mehr
✔ Erweiterter Wellenlängenbereich von 340 nm bis 1.650 nm oder von 365 nm bis 2150 nm
✔  Schichtwiderstandsmessungen