REM-SYSTEM FÜR DEN EINSTIEG

ZEISS EVO

Hochwertige Daten intuitiv erfassen – mit nur einem REM für alles.

Die Systeme der ZEISS EVO Produktfamilie kombinieren leistungsstarke Rasterelektronenmikroskopie mit einem intuitiven Bedienkonzept, das für erfahrene Anwender und Neueinsteiger gleichermaßen gut geeignet ist. Mit den umfangreichen Optionen lässt sich ZEISS EVO präzise auf Ihre Anforderungen abstimmen – für die Materialwissenschaften ebenso wie für die routinemäßige industrielle Qualitätskontrolle und Schadensanalyse.

  • Eine vielseitige Mehrzwecklösung
  • Klassenbeste Benutzerfreundlichkeit
  • Ausgezeichnete Bildqualität
  • Workflow-Automatisierung und Datenintegrität

ZEISS EVO für die Industrie

Erleben Sie eine neue Qualität bei der Prüfung Ihrer Proben.

ZEISS EVO ist das konventionelle Einstiegssystem mit einem Wolfram- oder LaB6-basierten Filament für täglich wiederholbare Bildgebungsaufgaben, z. B. hochauflösende Materialanalysen, mit weitgehend automatisierten und unterstützenden Arbeitsabläufen. Das System bietet Flexibilität für weniger anspruchsvolle Strukturgrößen.

Anwendungsgebiete

  • Qualitätsanalyse und Qualitätskontrolle
  • Fehleranalyse und Fraktographie
  • Materialographie
  • Sauberkeitskontrolle
  • Morphologische und chemische Analyse von Partikeln gemäß ISO 16232 und VDA 19 Teil 1 & 2
  • Analyse nicht-metallischer Einschlüsse 

ZEISS EVO: Hochwertige Daten intuitiv erfassen – mit nur einem EM für alles

Erleben Sie eine neue Qualität bei der Prüfung Ihrer Proben. Bei ZEISS EVO stehen Ihnen eine Reihe an Konfigurationsoptionen zur Verfügung. So können Sie sich genau das System zusammenstellen, das Ihren Anforderungen entspricht – sowohl im Bezug auf die Leistung als auch auf Ihr Budget. Sie haben die Wahl zwischen drei Kammergrößen und können dazu die Auflösung konfigurieren, die zu Ihrer Anwendung passt.

Darüber hinaus können Sie auch Modi für Hochvakuum, variablen Druck oder Umgebungsdruck ausrüsten, je nach den von Ihnen untersuchten Proben. Um das System auf Ihre Anwendung zuzuschneiden, können Sie außerdem zwischen SE-, BSE-, EDX-, VP- und C2D-SE-Detektoren wählen. Mit ZEISS EVO kommen Sie zum erschwinglichen Preis in den vollen Genuss der Vorteile der Rasterelektronenmikroskopie.

Anwendungsbeispiele

  • Elektronik

    Verunreinigung an Oberfläche: Zu sehen sind hier deutlich erkennbare Verschmutzungen und Fremdkörper auf der Oberfläche an einer integrierten Schaltung. Abgebildet mit dem SE-Detektor im Hochvakuum bei 10 kV.

  • Brennstoffzelle

    Brennstoffzellen bestehen üblicherweise aus Platinelektroden, zwischen denen Polymerelektrolytmembranen liegen. Die kritischen Bauteile müssen bei niedrigen Spannungen abgebildet werden, um präzise Oberflächeninformationen in hoher Auflösung zu erhalten. Querschnitt mit LaB6-Quelle (links) und Wolfram-Quelle (rechts) bei 3 kV. Die LaB6-Quelle liefert mehr Oberflächeninformationen, bei niedriger Beschleunigungsspannung.

  • Verzinkter Weichstahl

    Querschnitt von verzinktem Weichstahl, abgebildet mit dem SE-Detektor auf ZEISS EVO 15. Links: Gießharz; Mitte: Zinkschicht; rechts: Weichstahl.

  • Materialanalyse mittels Röntgenspektroskopie (EDX)

    BSE-Bilder von repräsentativen korrodierten Oberflächen mit EDX-Elementverteilung: Chrom, Blei, Kupfer, Nickel, Kohlenstoff und Sauerstoff.

  • Schadensanalyse an der Oberfläche eines Kugellagers

    Die Oberfläche eines Kugellagers mit Rissen und Abplatzungen in der Struktur. Abgebildet mit dem BSE-Detektor.

  • Technische Sauberkeit

    Partikel eines Partikelfilters: technische Sauberkeitsanalyse und Qualitätskontrolle.

ZEISS EVO Rasterelektronenmikroskop

  • 10 Highlights in 90 Sekunden

    Erfahren Sie, wie das Rasterelektronenmikroskop ZEISS EVO Ihre routinemäßigen Inspektions- und Schadensanalyseaufgaben in Qualitäts- und Materiallaboren unterstützt, indem es selbst für unerfahrene Anwender eine intuitive Bildgebung ermöglicht. EVO Highlights:- Hochauflösende Bildgebung - Effiziente Bedienung - Analyse der chemischen Zusammensetzung - Große Werkstücke - Großflächige Bilderfassung - Nicht-leitende Proben - EDX-Partikelanalyse - Automatisierte Messungen - Intelligente Bildsegmentierung - Bildkorrelation und gemeinsame Nutzung

Weitere Anwendungen in der Industrie:

  • Phasen-, Partikel- und Schweißnahtanalyse
  • Visuelle Inspektion von elektronischen Komponenten, integrierten Schaltkreisen, MEMS-Bauteilen und Solarzellen
  • Untersuchung der Oberfläche und Kristallstruktur von Kupferdraht
  • Untersuchung der Metallkorrosion
  • Analyse von intermetallischen Phasen und Phasenübergängen
  • Bildgebung und Analyse von Mikrorissen und Bruchfestigkeit
  • Prüfung von Beschichtungen und Verbundwerkstoffen
  • Prüfung von Schweißnähten und hitzebeeinflussten Zonen

„Mit dem ZEISS EVO finden wir die Nadel im Heuhaufen“,

Johannes Bachmann ist Experte für Materialanalyse bei der INNIO Group. Laden Sie den Flyer herunter und lesen Sie die ganze Geschichte.
Eine Person in einem weißen Laborkittel hält in einer sauberen, klinischen Umgebung einen kleinen, zylindrischen medizinischen Stent zwischen ihren Fingern.
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Starke Drähte. Smarte Stents.

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ZEISS Lösungen für die technische Sauberkeit: ZEISS EVO

INNIO Group analysiert mit ZEISS Lösung chemische Zusammensetzung von Restschmutzpartikeln.

Genaue und zuverlässige Ergebnisse sind natürlich wichtig – aber ebenso ihre schnelle Verfügbarkeit.

sagt Thomas Schaupp, Laborleiter des akkreditierten Werkstofflabors SPC. Erfahren Sie, wie das ZEISS EVO und die korrelative Mikroskopie von ZEISS dem Prüflabor helfen, 30 % schnellere Ergebnisse zu erzielen. Laden Sie den Flyer herunter und lesen Sie die ganze Geschichte.

Mikroskopie-Anwendungen für die Qualitätssicherung:

Kundenbeispiele aus der Industrie für die Industrie
  • ZEISS IMS Kundenstory SPC Metallographie DE Flyer

    17 MB
  • ZEISS IMS Kunden Story INNIO Group Mik TCA DE PDF

    16 MB
  • ZEISS_IMS_SEM_Brochure_Portfolio_DE.PDF

    32 MB


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