Geschichte der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken von ZEISS

Der Bereich Semiconductor Metrology Systems ist führend auf dem Gebiet der Mess- und Reparatursysteme für Fotomasken. Die Erfolgsgeschichte begann im Jahr 1994, als das Unternehmen sein erstes Aerial Image Measurement System (AIMS) für die Halbleiterindustrie auslieferte, das MSM-100. Es wird dazu verwendet, um die Funktionalität von Fotomasken zu bewerten.

In Kooperation mit der Firma NaWoTec (heute bei ZEISS) wurde ein innovatives Verfahren eingeführt, um Defekte auf Fotomasken zu reparieren. Auf Basis einer Elektronenstrahltechnologie repariert das MeRiT System kritische Maskendefekte mit höchster Präzision. Mit dem Kauf eines Israelischen Start-up Unternehmens wurde das Portfolio um eine Femtoskundenlaser-Technologie erweitert. Darauf basierend wurden verschiedene neue Produkte entwickelt, mit denen man einzelne Parameter von Masken optimieren kann.

Eines der neueren innovativen Lösungen ist das PROVE-System, das es Kunden ermöglicht, die Positionsgenauigkeit der Strukturen auf Fotomasken zu messen. Heute sind diese Systeme Standard in der Halbleiterindustrie.