Baustellen-Update: Erste Ebenen und Räume sind zu erkennen

Nachdem die Rohbauarbeiten an Sockelgeschoss 3 (unterste Ebene) komplett abgeschlossen sind, ist auch das zweite Sockelgeschoss (S2) weitestgehend fertiggestellt. Momentan liegt der Fokus der Bauarbeiten auf der Fertigstellung des ersten Sockelgeschosses. Auf der Ebene 1 werden nun in den ersten Gebäuden die ersten Wände gestellt. Der ZEISS Hightech-Standort nimmt immer mehr Form an.

Anfang des Jahres starteten die Arbeiten an den ersten Teilen der Transferdecke zwischen den Sockelgeschossen und der Ebene 1. Die Transferdecke funktioniert als Basis für die aufsteigenden Ebenen und wird zukünftig die Lasten aus den aufgehenden Gebäuden auf die Sockelgeschosse umleiten. Das bedeutet, dass aktuell insgesamt 40.000 Quadratmeter Beton für die etwa 1 Meter dicken Decken verbaut werden. Die Dicke der Transferdecke ist notwendig, da zukünftig die Entwicklungseinheiten der ZEISS Bereiche in der Ebene 1 verortet sein werden, deren Arbeiten erhöhte Schwingungsanforderungen mit sich bringen.

Im Gebäude 1, welches künftig der Haupteingang des neuen Standorts sein wird und sich gegenüber vom Jenapharm-Gebäude befinden wird, kann man seit kurzem schon die ersten Fundamente sehen und erste Mauern und Räume des hinteren Teils des Hightech-Standorts erkennen. Zusätzlich zum Eingangsbereich sind die Fundamentarbeiten an den Flächen des ZEISS Bereichs Semiconductor Mask Solution (SMS) gestartet.