Pressemitteilung

ZEISS stärkt sein Advanced-Packaging-Portfolio mit Lösungen für die Inline-3D-Röntgeninspektion und Wafer-Formkontrolle

12. Oktober 2026 · 3 Min. Lesedauer
  • Mit ZEISS NLX und ZEISS DUNE unterstützt ZEISS SMT Kunden dabei, steigende Anforderungen an Präzision, Prozesskontrolle und Produktivität zu erfüllen.
  • ZEISS SMT unterstützt zentrale Prozessschritte der Mikrochipherstellung von Lithographie-Optiken und Photomasken-Lösungen bis hin zu Advanced Packaging.
  • ZEISS ist seit 100 Jahren in den USA präsent. Heute ist ZEISS SMT dort ein starker Technologiepartner der Halbleiterindustrie.
Oberkochen, Deutschland / San Francisco, USA | 12. Oktober 2026 | ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Die ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) deckt zentrale Prozesse der Halbleiterfertigung ab. Das Technologieportfolio reicht von Lithographie-Optiken und Photomasken-Systemen bis hin zu Lösungen für die Herstellung modernster Mikrochips und Chiplets. Mit zunehmend komplexen Chiparchitekturen gewinnt Advanced Packaging an Bedeutung und stellt die Halbleiterindustrie vor neue Herausforderungen. Wenn mehrere Chips oder Chiplets auf engem Raum zusammengeführt werden, müssen interne Strukturen, Verbindungen und Verformungen zuverlässig geprüft werden. Dafür bietet ZEISS SMT die Plattformen ZEISS NLX und ZEISS DUNE.

ZEISS NLX macht interne Strukturen in modernen Chip-Packages zerstörungsfrei sichtbar. So können Halbleiterunternehmen beispielsweise Verbindungen zwischen gestapelten Dies prüfen und mögliche Defekte frühzeitig erkennen. Das System ist für 300-Millimeter-Wafer ausgelegt und unterstützt sowohl die Entwicklung neuer Prozesse als auch die Volumenproduktion.

ZEISS DUNE setzt bei einer weiteren kritischen Herausforderung komplexer Fertigungsprozesse an: der Waferverformung. Das System vermisst die Topografie eines Wafers und kann ihn individuell korrigieren. Damit unterstützt es anspruchsvolle Prozessschritte, etwa um Ausbeuteverluste in nachgelagerten Verarbeitungsschritten zu vermeiden oder Bonding-Prozesse vorzubereiten.

„Die nächste Generation der Halbleiterfertigung wird nicht allein durch einzelne Technologiesprünge ermöglicht, sondern durch das präzise Zusammenspiel vieler hochkomplexer Prozessschritte. In wichtigen Innovationsmärkten wie den USA sind enge Technologiepartnerschaften unverzichtbar. ZEISS SMT ergänzt seine umfassende Expertise in optischen Systemen und Prozesskontrolle um neue Lösungen für Advanced Packaging. Gemeinsam helfen diese Kompetenzen unseren Kunden, künftige Chipgenerationen zuverlässig, produktiv und in großem Maßstab in die Produktion zu überführen“, sagt Christoph Hensche, President ZEISS Semiconductor Manufacturing Optics.

Advanced Packaging ist Teil des Technologieportfolios von ZEISS SMT. Auf der SEMICON West zeigt das Unternehmen, wie seine Technologien zentrale Prozesse der Halbleiterfertigung unterstützen.

  • ZEISS NLX-100 System zur zerstörungsfreien Inspektion innerer Strukturen moderner Chip-Packages.

    ZEISS NXL macht die innere Struktur moderner Chip-Pakete sichtbar, ohne sie zu zerstören.

  • ZEISS DUNE 100 zur Messung und Korrektur von Waferdeformationen in der Halbleiterfertigung.

    ZEISS DUNE 100 misst Waferdeformationen und unterstützt die gezielte Korrektur in komplexen Halbleiterprozessen.

Fortschrittliche Technologien für kritische Lithographieprozesse

Ein Schwerpunkt von ZEISS SMT sind Photomasken-Lösungen für stabile Lithographieprozesse. ZEISS AIMS EUV 3.0 prüft Photomasken unter optischen Bedingungen, die mit denen im Waferscanner vergleichbar sind. So lassen sich kritische Defekte erkennen und bewerten, bevor sie die Produktion beeinträchtigen. Das System unterstützt die Low-NA- und High-NA-EUV-Lithographie, verdreifacht den Maskendurchsatz und ist bereits bei führenden Chipherstellern im Einsatz. ZEISS MeRiT ermöglicht darüber hinaus die gezielte Reparatur kleinster Defekte auf Photomasken und ergänzt damit die Maskenqualifizierung durch einen wichtigen Bearbeitungsschritt.

„Je anspruchsvoller die Halbleiterfertigung wird, desto wichtiger ist die Qualität der Photomasken. Mit ZEISS AIMS EUV 3.0 und weiteren Photomasken-Lösungen unterstützt ZEISS SMT seine Kunden dabei, Defekte frühzeitig zu bewerten und Lithographieprozesse stabil zu halten. Durch die enge Zusammenarbeit mit Kunden und Partnern können wir diese Lösungen gezielt auf die Anforderungen der nächsten Chipgenerationen ausrichten“, sagt Axel Christian, Präsident ZEISS Nordamerika.

ZEISS ist ein starker Technologiepartner der Halbleiterindustrie in den USA

2026 blickt ZEISS auf 100 Jahre Geschäftstätigkeit in den USA zurück. Für die Halbleiterindustrie sind die USA ein wichtiger Innovations- und Produktionsstandort. ZEISS SMT profitiert von dieser Marktnähe und unterstützt die Halbleiterindustrie als starker Technologiepartner mit Lösungen für zentrale Prozessschritte der Mikrochipherstellung von Lithographie und Photomasken bis hin zu Advanced Packaging.

Portrait-Bild von Jeannine Rapp
PRESSEKONTAKT Jeannine Rapp Carl Zeiss SMT GmbH

Über ZEISS

ZEISS ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen der optischen und optoelektronischen Industrie. In den vier Sparten Semiconductor Manufacturing Technology, Industrial Quality & Research, Medical Technology und Consumer Markets erwirtschaftete die ZEISS Gruppe zuletzt einen Jahresumsatz von knapp 12 Milliarden Euro (30. September 2025).

ZEISS entwickelt, produziert und vertreibt für seine Kunden hochinnovative Lösungen für die industrielle Messtechnik und Qualitätssicherung, Mikroskopielösungen für Lebenswissenschaften und Materialforschung sowie Medizintechniklösungen für Diagnostik und Therapie in der Augenheilkunde und der Mikrochirurgie. ZEISS steht auch für die weltweit führende Lithographieoptik, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen von der Chipindustrie verwendet wird. ZEISS Markenprodukte wie Brillengläser, Fotoobjektive und Ferngläser sind weltweit begehrt und Trendsetter.

Mit diesem auf Wachstumsfelder der Zukunft wie Digitalisierung, Gesundheit und Industrie 4.0 ausgerichteten Portfolio und einer starken Marke gestaltet ZEISS den technologischen Fortschritt mit und bringt mit seinen Lösungen die Welt der Optik und angrenzende Bereiche weiter voran. Grundlage für den Erfolg und den weiteren kontinuierlichen Ausbau der Technologie- und Marktführerschaft von ZEISS sind die nachhaltig hohen Aufwendungen für Forschung und Entwicklung. ZEISS investiert 14% seines Umsatzes in Forschungs- und Entwicklungsarbeit – diese hohen Aufwendungen haben bei ZEISS eine lange Tradition und sind gleichermaßen eine Investition in die Zukunft.

Mit 47.400 Mitarbeitenden ist ZEISS in rund 50 Ländern mit mehr als 60 Vertriebs- und Servicestandorten, rund 40 Forschungs- und Entwicklungsstandorten sowie 30 Produktionsstandorten weltweit aktiv (31. März 2026). Hauptstandort des 1846 in Jena gegründeten Unternehmens ist Oberkochen, Deutschland. Alleinige Eigentümerin der Dachgesellschaft, der Carl Zeiss AG, ist die Carl-Zeiss-Stiftung, eine der größten deutschen Stiftungen zur Förderung der Wissenschaft.

Weitere Informationen unter www.zeiss.de

 

ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Die Sparte Semiconductor Manufacturing Technology deckt mit ihrem Produktportfolio und weltweit führendem Know-how verschiedene Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips ab. Zu den Produkten des Bereichs zählen Halbleiterfertigungs-Optiken – darunter Lithographie-Optiken –, Photomaskensysteme sowie Lösungen für die leading-edge Mikrochip- und Chiplet-Fertigung. Dank der ZEISS Technologien werden Mikrochips zunehmend kleiner, leistungsfähiger, energieeffizienter und preiswerter. Die damit ausgestatteten elektronischen Anwendungen ermöglichen globalen Fortschritt in verschiedenen Disziplinen, darunter Technologie, Elektronik, Kommunikation, Unterhaltung, Mobilität und Energie. Hauptsitz von Semiconductor Manufacturing Technology ist Oberkochen. Weitere Standorte der Sparte sind Jena, Roßdorf, Wetzlar, Aachen und Coswig (Deutschland), Zürich (Schweiz) sowie Bar Lev (Israel) und Dublin (USA). ZEISS SMT unterhält zudem verschiedene Vertriebs- und Servicestandorte in den USA, China, Taiwan (Region), Südkorea und Japan.

Pressebilder

  • ZEISS NLX

    ZEISS NLX macht die innere Struktur moderner Chip-Packages sichtbar, ohne sie zu zerstören.

    1 MB
  • ZEISS DUNE

    ZEISS DUNE 100 misst Waferdeformationen und unterstützt die gezielte Korrektur in komplexen Halbleiterprozessen.

    2 MB



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