Pressemitteilung

ZEISS auf der SEMICON Taiwan 2026

2. September 2026 · 4 Min. Lesedauer
  • ZEISS SMT positioniert sich auf der SEMICON Taiwan 2026 als Technologiepartner für die nächste Generation der Halbleiterfertigung.
  • Im Fokus stehen Advanced Packaging sowie Mess- und Inspektionslösungen, die mehr Präzision und Stabilität in zunehmend komplexen Fertigungsprozessen ermöglichen.
  • Der Messeauftritt unterstreicht die Bedeutung von Kundennähe in einem führenden Halbleiterstandort, der Fertigungsstärke, Innovationskraft und ein dichtes Ökosystem entlang der Wertschöpfungskette verbindet.
Taipeh, Taiwan/ Oberkochen | 02. September 2026 | ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) ist vom 2. bis 4. September 2026 auf der SEMICON Taiwan in Taipeh vertreten. Im Mittelpunkt des Messeauftritts stehen Advanced Packaging und Technologien, die Kunden bei steigender Prozesskomplexität, engeren Toleranzen und höheren Anforderungen an Ausbeute (Yield) und Stabilität unterstützen.

Gemeinsam mit seinem strategischen Partner ASML ermöglicht ZEISS SMT die Entwicklung und den Einsatz modernster Lithographie-Technologie durch die Bereitstellung leistungsfähiger optischer Systeme. Zusätzlich unterstützt ZEISS SMT Chiphersteller mit Lösungen aus den Portfolios der strategischen Geschäftsbereiche Semiconductor Mask Solutions und Semiconductor Fab Solutions dabei, komplexe Fertigungsschritte zuverlässiger zu kontrollieren: von Technologien für hochpräzise Photomasken, die in der Lithographie als Vorlage für Chipstrukturen dienen, bis hin zur Prüfung feinster Strukturen auf dem Wafer und zur Kontrolle von Verformungen.

Taiwan zählt zu den weltweit führenden Halbleiterstandorten und gewinnt durch die steigende Nachfrage nach leistungsfähigen Halbleitern für Anwendungen der Künstlichen Intelligenz zunehmend an strategischer Bedeutung. Das dichte Ökosystem aus Foundries, Fabless-Unternehmen, Speicherherstellern, Packaging-Anbietern, Forschungseinrichtungen und Zulieferern beschleunigt Innovation und Technologieadaption entlang der gesamten Wertschöpfungskette.

  • ZEISS DUNE 100 zur Messung und Korrektur von Waferdeformationen in der Halbleiterfertigung.

    ZEISS DUNE 100 misst Waferdeformationen und unterstützt die gezielte Korrektur in komplexen Halbleiterprozessen.

  • ZEISS NLX-100 System zur zerstörungsfreien Inspektion innerer Strukturen moderner Chip-Packages.

    ZEISS NLX macht die innere Struktur moderner Chip-Packages sichtbar, ohne sie zu zerstören.

Präzision und Prozesskontrolle für Advanced Packaging

Advanced Packaging entwickelt sich dabei zu einem strategischen Schwerpunkt: Chiphersteller müssen höhere Leistung, geringeren Energieverbrauch und mehr Funktionen auf kleinerem Raum ermöglichen. Gleichzeitig steigen die Anforderungen an Messgenauigkeit, Fehlererkennung und Prozessstabilität, weil Chipstrukturen kleiner, dichter und dreidimensionaler werden.

„Taiwan ist ein zentraler Standort für die globale Halbleiterindustrie und ein Markt, in dem neue Anforderungen an Leistung, Integration und Fertigungspräzision besonders früh sichtbar werden. Für ZEISS SMT ist die SEMICON Taiwan deshalb ein wichtiger Ort, um den direkten Austausch mit Kunden und Partnern zu vertiefen. Diese Nähe hilft uns, technologische Entwicklungen besser zu verstehen und Lösungen gezielt an den Anforderungen der nächsten Chipgeneration auszurichten“, sagt Dr. Frank Rohmund, Präsident und CEO von ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology und Mitglied des ZEISS Executive Boards.

„Advanced Packaging erhöht die Anforderungen an Prozesskontrolle und Fehlererkennung deutlich. Unsere Lösungen helfen Kunden, komplexe Strukturen auf dem Wafer oder im Package sichtbar zu machen, Prozesse stabil zu halten und neue Technologien schneller in eine zuverlässige Produktion zu überführen“, sagt Dr. Karoline Piegdon, Head of Semiconductor Fab Solutions bei ZEISS SMT.

Mehr Kontrolle für komplexe Chipstrukturen

Wie eine solche Prozesskontrolle aussehen kann, zeigt ZEISS NLX. Das System macht innere Strukturen moderner Chip-Packages sichtbar, ohne sie zu zerstören. So können Chiphersteller etwa Verbindungen zwischen gestapelten Dies prüfen und mögliche Fehler früh erkennen. ZEISS NLX ist für 300-mm-Wafer ausgelegt und unterstützt sowohl die Entwicklung neuer Prozesse als auch den Einsatz in der Volumenproduktion.

ZEISS DUNE hilft dabei, die Verbiegung von Wafern gezielt zu kontrollieren. Das System misst die Topographie des Wafers und kann sie individuell korrigieren. Das ist besonders bei komplexen Produktionsschritten wichtig, etwa um Yield-Verluste bei der Weiterverarbeitung zu vermeiden oder wenn das Bonding vorbereitet werden soll.

Zusätzlich stärkt ZEISS SMT die lokale Verfügbarkeit entsprechender Technologie in Taiwan: Ab Ende September wird ein ZEISS DUNE 100 System in Taiwan installiert werden, um Kunden den direkten Austausch zu konkreten Anwendungen vor Ort ermöglichen.

Eine breite Auswahl an Maskenlösungen ermöglicht die Herstellung von perfekten high-end Photomasken

Der strategische Geschäftsbereich Semiconductor Mask Solutions (SMS) von ZEISS SMT bietet führende Lösungen für die zuverlässige Herstellung hochwertiger Photomasken. Ein Beispiel dafür ist das neue AIMS® EUV 3.0-System, das weltweit bei führenden Halbleiterherstellern im Einsatz ist. Diese neue Generation setzt einen Maßstab bei der Qualifizierung von Photomasken, die entscheidend für die Leistungsfähigkeit und Funktionalität von Chips der nächsten Generation sind.

Für ZEISS SMS ist Taiwan ein sehr wichtiger Markt, da dort viele technologische Anforderungen an die modernste Photomaskenfertigung frühzeitig sichtbar werden. „Wir setzen auf kontinuierliche Verbesserung und Innovation, um sicherzustellen, dass unseren Kunden modernste Technologien zur Verfügung stehen und sie in einer sich schnell wandelnden Branche erfolgreich sein können“, sagt Dr. Clemens Neuenhahn, Leiter Semiconductor Mask Solutions bei ZEISS SMT. „Der enge Austausch mit unseren lokalen Kunden und Partnern hilft uns zu verstehen, wohin sich die Branche entwickelt, und unsere Maskenlösungen gezielt an die Anforderungen der Chipfertigung der nächsten Generation auszurichten.“

Kundennähe in Asien

Mit der Präsenz auf der SEMICON Taiwan knüpft ZEISS SMT an den Ausbau seiner Kundennähe in wichtigen asiatischen Halbleitermärkten an. Im Juli 2026 eröffnete ZEISS SMT in Yongin, Korea, ein Semiconductor Innovation Center, um die Zusammenarbeit mit Kunden weiter zu vertiefen und lokalen Zugang zu ausgewählten Lösungen für Hochvolumen-Waferproduktion, Wafer-Level-Packaging und Photomaskenfertigung zu ermöglichen. Das Center unterstützt Vor-Ort-Entwicklung, Prozessoptimierung und eine schnellere Qualifizierung für Hochvolumen-Produktionsumgebungen. So trägt es dazu bei, den Übergang von Forschung und Entwicklung zur Anwendung beim Kunden zu beschleunigen.

Auch in Taiwan plant ZEISS SMT, den Zugang zu Technologien und anwendungsnahem Austausch vor Ort künftig weiter auszubauen.

Portrait-Bild von Jeannine Rapp
PRESSEKONTAKT Jeannine Rapp Carl Zeiss SMT GmbH
Pressekontakt Janet Yu ZEISS Taiwan Corporate Brand & Communication

Über ZEISS

ZEISS ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen der optischen und optoelektronischen Industrie. In den vier Sparten Semiconductor Manufacturing Technology, Industrial Quality & Research, Medical Technology und Consumer Markets erwirtschaftete die ZEISS Gruppe zuletzt einen Jahresumsatz von knapp 12 Milliarden Euro (30. September 2025).

ZEISS entwickelt, produziert und vertreibt für seine Kunden hochinnovative Lösungen für die industrielle Messtechnik und Qualitätssicherung, Mikroskopielösungen für Lebenswissenschaften und Materialforschung sowie Medizintechniklösungen für Diagnostik und Therapie in der Augenheilkunde und der Mikrochirurgie. ZEISS steht auch für die weltweit führende Lithographieoptik, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen von der Chipindustrie verwendet wird. ZEISS Markenprodukte wie Brillengläser, Fotoobjektive und Ferngläser sind weltweit begehrt und Trendsetter.

Mit diesem auf Wachstumsfelder der Zukunft wie Digitalisierung, Gesundheit und Industrie 4.0 ausgerichteten Portfolio und einer starken Marke gestaltet ZEISS den technologischen Fortschritt mit und bringt mit seinen Lösungen die Welt der Optik und angrenzende Bereiche weiter voran. Grundlage für den Erfolg und den weiteren kontinuierlichen Ausbau der Technologie- und Marktführerschaft von ZEISS sind die nachhaltig hohen Aufwendungen für Forschung und Entwicklung. ZEISS investiert 14% seines Umsatzes in Forschungs- und Entwicklungsarbeit – diese hohen Aufwendungen haben bei ZEISS eine lange Tradition und sind gleichermaßen eine Investition in die Zukunft.

Mit 47.400 Mitarbeitenden ist ZEISS in rund 50 Ländern mit mehr als 60 Vertriebs- und Servicestandorten, rund 40 Forschungs- und Entwicklungsstandorten sowie 30 Produktionsstandorten weltweit aktiv (31. März 2026). Hauptstandort des 1846 in Jena gegründeten Unternehmens ist Oberkochen, Deutschland. Alleinige Eigentümerin der Dachgesellschaft, der Carl Zeiss AG, ist die Carl-Zeiss-Stiftung, eine der größten deutschen Stiftungen zur Förderung der Wissenschaft.

Weitere Informationen unter www.zeiss.de

 

ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Die Sparte Semiconductor Manufacturing Technology deckt mit ihrem Produktportfolio und weltweit führendem Know-how verschiedene Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips ab. Zu den Produkten des Bereichs zählen Halbleiterfertigungs-Optiken – darunter Lithographie-Optiken –, Photomaskensysteme sowie Lösungen für die leading-edge Mikrochip- und Chiplet-Fertigung. Dank der ZEISS Technologien werden Mikrochips zunehmend kleiner, leistungsfähiger, energieeffizienter und preiswerter. Die damit ausgestatteten elektronischen Anwendungen ermöglichen globalen Fortschritt in verschiedenen Disziplinen, darunter Technologie, Elektronik, Kommunikation, Unterhaltung, Mobilität und Energie. Hauptsitz von Semiconductor Manufacturing Technology ist Oberkochen. Weitere Standorte der Sparte sind Jena, Roßdorf, Wetzlar, Aachen und Coswig (Deutschland), Zürich (Schweiz) sowie Bar Lev (Israel) und Dublin (USA). ZEISS SMT unterhält zudem verschiedene Vertriebs- und Servicestandorte in den USA, China, Taiwan (Region), Südkorea und Japan.

Pressebilder

  • ZEISS DUNE

    ZEISS DUNE 100 misst Waferdeformationen und unterstützt die gezielte Korrektur in komplexen Halbleiterprozessen.

    2 MB
  • ZEISS NLX

    ZEISS NLX macht die innere Struktur moderner Chip-Packages sichtbar, ohne sie zu zerstören.

    1 MB



Teilen auf