Am Herzschlag der Digitalisierung: Ministerpräsident Kretschmann besucht ZEISS

Die Halbleiterindustrie ist eine wichtige strategische Säule für die Wirtschaft in Deutschland. Die Innovationskraft von ZEISS hat daran entscheidenden Anteil. Davon hat sich Ministerpräsident Kretschmann heute beim Besuch am ZEISS Standort Oberkochen überzeugt.

Baden-Württembergs Ministerpräsident Winfried Kretschmann hat heute ZEISS, ein weltweit führendes Technologieunternehmen der optischen und optoelektronischen Industrie, am Haupt-Standort Oberkochen besucht. Dr. Karl Lamprecht, Vorstandsvorsitzender von ZEISS und Andreas Pecher, Mitglied im ZEISS Vorstand und verantwortlich für die Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), gaben dem Ministerpräsidenten nicht nur Einblick in die Fertigung der „präzisesten“ Spiegel der Welt, sondern überzeugten ihn auch von der Innovations- und Investitionskraft des Unternehmens auf der Ostalb.

Die ZEISS Sparte SMT deckt wichtige Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips ab. Gemeinsam mit dem niederländischen Partner ASML ist ZEISS der weltweit einzige Hersteller für EUV-Lithographie-Maschinen für die Chipherstellung. Die Optik, das Kernstück solcher Anlagen, entwickelt und fertigt ZEISS in Oberkochen.

Beim Gang durch die Reinräume, in denen die innovativen Extreme Ultra Violet (EUV)-Lithographiesysteme produziert werden, zeigten sich Ministerpräsident Kretschmann und seine Delegation von der Komplexität und Präzision der Technologien und deren Herstellungsprozesse beeindruckt.

Da EUV-Licht von allen Materialien und sogar von Luft absorbiert wird, hat ZEISS ein vollständig aus Spiegeln aufgebautes, im Hochvakuum betriebenes optisches System entwickelt. Die Anforderungen an die EUV-Spiegel und damit ihre Herstellung und Vermessung sind extrem: Sie müssen mit atomarer Präzision gefertigt und beschichtet werden. Derartige Genauigkeiten erfordern äußerst akkurate Messtechnik, die Spiegel für die neueste Optik werden in Vakuumkammern mit fünf Metern Durchmesser vermessen und es dauert länger als ein Jahr, um einen dieser Spiegel herzustellen.

„Einen Einblick in die Herzkammer von ZEISS zu bekommen, war ein sehr beeindruckendes Erlebnis. Die EUV-Technologie, die hier entwickelt wird, macht die Digitalisierung von heute und morgen erst möglich“, betonte Ministerpräsident Kretschmann bei seinem Besuch. „ZEISS leistet mit dieser Forschung und Entwicklung einen enormen Beitrag, um Anwendungen wie Autonomes Fahren, den neuen Mobilfunkstandard 5G, Künstliche Intelligenz und weitere künftige Innovationen zu ermöglichen.“ Damit habe das Unternehmen weltweit eine Vorreiterrolle bei der Ausrüstung von Fabriken, die modernste Mikrochips herstellen, so Kretschmann: „Wir können glücklich sein, ein solch innovatives Unternehmen im Land zu haben. Der Wirtschaftsstandort Baden-Württemberg braucht gemeinsame Forschungsprojekte und Innovationstreiber, um wettbewerbsfähig zu bleiben und auch in Zukunft eine führende Rolle spielen zu können.“

Der Rundgang bot zudem Gelegenheit, die Rolle der Halbleiterindustrie als eine wichtige strategische Säule für die Wirtschaft in Deutschland und Europa zu diskutieren. Die Industrie mit hoher Innovationskraft liefert einen signifikanten Beitrag für Deutschland als Hoch-Technologiestandort und zeigt eine enorme Wachstumsdynamik.

„Unsere hohe Innovationskraft ist ein Schlüsselerfolgsfaktor für das dynamische Wachstum von ZEISS. Gerade die EUV-Technologie ist dafür ein sehr gutes Beispiel. Sie ermöglicht zum einen Fortschritt für die Digitalisierung selbst und zum anderen damit auch Fortschritt durch Digitalisierung. Gleichzeitig verbessert die Technologie durch ihre höhere Leistungsfähigkeit auch die Energieeffizienz und leistet damit einen Beitrag zu mehr Nachhaltigkeit“, so Lamprecht bei dem Rundgang.

Denn ZEISS und ASML entwickeln schon seit geraumer Zeit die nächste EUV-Generation: ein optisches System mit einer numerischen Apertur von 0,55, eine sogenannte High-NA-EUV-Optik. Diese Technologie ermöglicht den Halbleiterherstellern künftig noch leistungsfähigere und energieeffizientere Chips zu geringeren Kosten produzieren.

„Zukunftstechnologien erfordern neben Innovationskraft auch Investitionen. Die Entwicklung der EUV-Technologie war ein Marathon – und ein Erfolg europäischer Zusammenarbeit und gemeinsamer Forschungsarbeit“, ergänzt Pecher. „Mit der Entwicklung der nächsten EUV-Generation, High-NA-EUV, zeigen wir, dass wir uns nicht auf Erreichtem ausruhen. Auch dafür sind erneut hohe Investitionen nötig. Wir hoffen auf ein positives Signal auf Bundesebene hinsichtlich Forschungsförderung und Unterstützung bei der Umsetzung der nötigen Infrastruktur.“

ZEISS hat eine bewegte 175-jährige Firmengeschichte, die von technischen Meilensteinen geprägt ist. Diese zeugen von fortwährendem Erneuerungswillen und dem Streben nach technischem Fortschritt – Innovation ist sozusagen Teil der ZEISS DNA. Technologien von ZEISS prägen Gebiete wie Medizin, Lebenswissenschaften oder Automotive, aber auch Informationstechnologie und Kommunikation. Erreicht hat der Technologieführer dies, indem er immer wieder aufs Neue beweist, wie es gelingen kann durch Innovationen die Grenzen des technisch Machbaren zu verschieben.

Die Strategie von ZEISS ist dabei global und auf langfristige Megatrends wie Digitalisierung, demographischer Wandel oder neue Mobilitätsmuster ausgerichtet. Dass diese Strategie auch in herausfordernden Zeiten – wie beispielsweise den aktuellen geopolitischen Rahmenbedingungen – funktioniert, belegt der gute Start in das Geschäftsjahr 2021/22.