Winfried Kaiser mit dem SPIE Frits Zernike Award for Microlithography ausgezeichnet

Oberkochen, Deutschland / San José, USA | 26. Februar 2020 | ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Winfried Kaiser, Leiter Produktstrategie der ZEISS Halbleitersparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) und in höchster Stufe der Fachlaufbahn Fellow des Unternehmens, ist mit dem Frits Zernike Award for Microlithography 2020 der Internationalen Gesellschaft für Optik und Photonik (SPIE) ausgezeichnet worden. Kaiser nahm den Preis im Rahmen der Fachmesse SPIE Advanced Lithography in San José, Kalifornien entgegen. Der Award gilt als höchste Auszeichnung in der Mikrolithographie.

Kaiser initiierte vor 25 Jahren die Einführung des Entwicklungsprogramms für die Lithographie mit extrem ultraviolettem Licht (EUV) in Europa. Als revolutionäre Fertigungstechnologie ermöglicht EUV-Lithographie mit einer Lichtwellenlänge von 13,5 Nanometern seit 2019 die Serienproduktion von enorm leistungsfähigen Mikrochips mit feinsten Strukturen. Kaiser war zudem eine Schlüsselfigur in der Entwicklung von Lithographie-Technologien wie Deep-Ultraviolett-(DUV)-Systeme, die heute Industriestandard sind – insbesondere die Lithographie mit Lichtwellenlängen von 248 und 193 Nanometer sowie die Immersionslithographie.

Dr. John Greivenkamp, Präsident der SPIE, würdigte: „Winfried Kaiser hat mit seinem technischen Know-how und seinem beispielhaften Engagement die Weiterentwicklung modernster lithografischer optischer Systeme vorangetrieben, einschließlich der EUV-Lithographie, die die Fortführung des Moore’schen Gesetzes ermöglicht. ZEISS entwickelt und produziert unter anderem solche Lithographie-Optiken, die als Teil von Waferscannern für die Herstellung immer leistungsfähigerer Mikrochips eingesetzt werden.

Prof. Dr. Michael Kaschke, Vorstandsvorsitzender von ZEISS, gratulierte Kaiser zu seinem Erfolg: „Winfried Kaiser hat sich in mehr als 35 Jahren die Rolle eines Gestalters und Ideengebers erarbeitet, der die Chancen des Marktes erkennt und höchstes Ansehen in internationalen Fachkreisen genießt. Dies hat zum globalen Renommee von ZEISS als Technologie- und Marktführer der Lithographie-Optik beigetragen und zu hoher wirtschaftlichen Wertschöpfung in Innovationsbereichen wie die EUV-Technologie geführt.“

Dr. Markus Weber, Mitglied des ZEISS Vorstands und Leiter der Sparte SMT ergänzte: „Herzlichen Glückwunsch an Winfried Kaiser für die Auszeichnung seiner herausragenden Leistungen im Bereich der Mikrolithographie – eine besondere Ehre, die bisher nur einem auserwählten Gewinnerkreis zuteilwurde und ein bedeutender Award für einen ganz besonderen Kollegen, ohne den es die SMT, so wie sie heute ist, wohl nicht geben würde. Alle ZEISS Lithographie-Optiken basieren auf seiner Produktstrategie und seinen Initiativen, die ein tiefes Verständnis der Hochleistungsoptiken, ihrer Anwendung und seinem Gespür für die Bedürfnisse eines dynamischen Marktes und dessen Kunden erfordern.“

Winfried Kaiser kommentierte bei der Preisverleihung: „Ich freue mich sehr über die hohe Auszeichnung. Der Award ehrt jedoch nicht nur mich persönlich, sondern auch das gesamte ZEISS Team und Management sowie unseren strategischen Partner ASML. Mit dem Preis werden unsere richtungsweisenden Entwicklungen in der optischen Lithographie wie EUV international honoriert – das erfüllt mich mit Stolz.“

Kaiser trat 1982 nach seinem Physik-Studium bei ZEISS ein und ist nach mehreren Stationen unter anderem als Leiter des Labors für Halbleiterentwicklung und der Produktentwicklung seit 2003 Leiter der Produktstrategie Lithographie-Optik. 2007 wurde Winfried Kaiser zum ersten Fellow der ZEISS Gruppe ernannt – die höchste Stufe der Fachlaufbahn. Ein Jahr später ernannte die SPIE Winfried Kaiser zum SPIE Fellow. Im Jahr 2014 wurde Kaiser mit dem SEMI Sales and Marketing Excellence Award ausgezeichnet.

Er ist der 16. Preisträger des SPIE Frits Zernike Awards für Mikrolithographie, der seit dem Jahr 2004 vergeben wird und den unter anderem auch Martin van den Brink, Co-President & Chief Technology Officer von ASML 2008 erhalten hat. Der Namensgeber des Awards Frits Zernike war ein niederländischer Chemiker, Physiker und Mathematiker, der 1953 für die Erfindung des Phasenkontrastmikroskops den Nobelpreis für Physik erhielt. Mit den SPIE-Awards werden herausragende Beiträge von Einzelpersonen aus der Wissenschaft anerkannt und geehrt.