Deutscher Zukunftspreis

Den technologischen Fortschritt von morgen ermöglichen

ZEISS AIMS™ 1x-193i

Präziser, schneller und benutzerfreundlicher

Das AIMS™ 1x-193i ist ein einzigartiges Qualifizierungssystem, welches Photomaskenhersteller zum Prüfen von Defekten sowie zur Verifikation von Reparaturen einsetzen. Es kann für alle Maskentypen eingesetzt werden und ermöglicht, die optische Performance von Masken unter Belichtungsbedingungen wie im Scanner zu analysieren.

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ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Halbleiterfertigungs-Optiken

Teilweise in Deutschland nicht vertrieben

Mit Lithographie-Optiken und weiteren optischen Systemen ermöglicht ZEISS Kunden weltweit die Herstellung extrem leistungsfähiger Mikrochips.

Photomaskenlösungen


Unsere Photomaskenlösungen dienen zur Produktion von defektfreien Photomasken für die Chipherstellung.

Prozesskontrolle & Fehleranalyse

Basierend auf seinem breiten Technologie-Portfolio bietet ZEISS für die Halbleiterindustrie einzigartige Lösungen zur Prozesskontrolle und Fehleranalyse. 

Produkt-Highlights

* Teilweise in Deutschland nicht vertrieben