ZEISS AIMS-Systeme

AIMS^® arbeitet unter den gleichen optischen Bedingungen wie der Scanner und ermöglicht es, die Printability der Photomaske bereits im Mask Shop zu prüfen. Die Technologie meistert die Herausforderungen, die sich mit zunehmender Komplexität, strengeren Maskenspezifikationen und einer genaueren und zuverlässigeren Fehlerdisposition ergeben. Im Zuge der Entwicklung verschiedener Gerätegenerationen wurden immer komplexere Beleuchtungsschemata benötigt. Daher wurde FlexIllu^®  entwickelt, eine computergesteuerte Beleuchtung für ZEISS DUV High-endSysteme, die eine Schlüsselrolle für die SMO-Technologie spielt.  Von größter Bedeutung für die Qualifizierung der Prinability einer Photomaske ist, dass das System alle optischen Effekte einschließlich Vektoreffekten und 3D-Maskeneffekten berücksichtigt.
AIMS^® 1x-193i bewirkt eine Aberrationskorrektur für die neueste Scannertechnologie und trägt zusammen mit der verbesserten Gleichmäßigkeit der Pupillen zu einem hervorragenden Scanner- und "tool- to-tool matching" bei.

ZEISS bietet ein breites Spektrum an Gerätegenerationen, die auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind. Die Systeme sind für verschiedene Beleuchtungswellenlängen und Anwendungen optimiert und zielen auf konkrete Marktanforderungen ab. ZEISS EUV- und 193-nm-High-End-AIMS-Systeme erfüllen die Anforderungen des High-End-Marktes, der durch eine hohe Komplexität der Features, komplexe Beleuchtungsschemata und eine stetige Verschärfung der Defekt- und Maskenspezifikationen gekennzeichnet ist. Der reife Markt erfordert robuste Prozesse, hohe Produktivität und kosteneffiziente Lösungen. Diese Anforderungen werden mit den 193 nm und 248 nm AIMS Systemen erfüllt.