Ein Mitarbeiter beim Arbeiten an einem ZEISS AIMS 1x im Reinraum bei ZEISS SMT
Disposition und Verifizierung von Defekten

ZEISS AIMS-Systeme

Defektfreie Photomasken

Es ist von entscheidender Bedeutung, alle Photomasken auf Defekte hin zu qualifizieren, ihre Auswirkungen auf die Printability der Maske zu verstehen und Fehler zu beheben, bevor die Maske in einem Stepper oder Scanner verwendet wird.  AIMS® ist das einzige System, das die Photomaske für alle Lithographietechniken einschließlich Double Patterning, Source Mask Optimization (SMO) und Inverse Lithography  unter Scanner-äquivalenten Bedingungen qualifiziert.

  • Scanner-ähnliche Bildgebungsbedingungen
  • Umfassende Leistungsverbesserungen
  • Maßgeschneiderte Konfiguration
  • Eine Photomaske, die mit einem ZEISS AIMS 1x Qualifizierungsgerät analysiert wird

Fehlerbewertung, Analyse und Überprüfung von reparierten Defekten

ZEISS bietet Lösungen, die eine fehlerfreie Printability bei Photomasken für 248 nm, 193 nm und EUV-Lithographie gewährleisten. Die Systeme qualifizieren Photomasken präzise entsprechend der Printability. Die erste ZEISS AIMS-Maschine wurde 1993 eingeführt. Heute sind die Systeme ein integraler Bestandteil des Maskenherstellungsprozesses und garantieren die Lieferung fehlerfreier Masken an Wafer Fabs.  

Nachfolgend finden Sie die ganze Vielfalt unserer innovativen AIMS®  Systeme

  • AIMS® EUV

    Die Plattform für aktinische EUV-Messungen sorgt für vollständige Emulation

    Mit der neuen Generation AIMS® EUV eröffnet ZEISS eine neue Ära der aktinischen Maskenqualifizierung.

    • Sorgt für eine vollständige Emulation der Scanner-Bildgebungsbedingungen für die NXE:3xy0-Scannersysteme und bietet Möglichkeiten zur Aufrüstung auf die nächste Generation der EXE:5000 High-NA-Scannersysteme.
    • Mit seiner Hochpräzisionsstufe zur genauen Fehlerlokalisierung und dem Einsatz einer EUV-Plasmaquelle erfüllt AIMS® EUV die Produktionsanforderungen der Industrie zur Herstellung fehlerfreier EUV-Photomasken.
  • AIMS® 1x-193i

    Gewährleistet perfekte Printability bei High-End-Masken

    ZEISS AIMS 1x-193i wird zur Fehlerprüfung, Printability-Analyse und Reparaturverifizierung eingesetzt und qualifiziert Photomasken mit hoher Präzision und Genauigkeit für heutige und zukünftige Technologieknoten.

    • Adressiert die Herausforderungen aus zunehmender Feature-Komplexität, strengeren Maskenspezifikationen und einer genaueren und zuverlässigeren Fehlerdisposition.
    • Bietet eine exzellente CD-Wiederholbarkeit und volle Beleuchtungsflexibilität mit FlexIllu®, einer computergesteuerten Beleuchtung, die eine Schlüsselrolle in der SMO-Technologie einnimmt.
    • Bietet künftige Leistungsupgrades zur Verbesserung der Systemfähigkeit in Bezug auf CD-Wiederholbarkeit und Durchsatz, um mit den aktuellen technologischen Anforderungen Schritt zu halten.
    • Unterstützt zusätzliche Anwendungen wie AIMS® AutoAnalysis für die vollautomatische und zuverlässige Analyse von Luftbildern und WLCD 2G für eine druckbewusste Masken-CD-Messtechnik.
  • AIMS® 32-193i SE

    Mehr Flexibilität bei der Defektqualifizierung von 193 nm-Masken

    ZEISS AIMS 32-193i SE ist für 193 nm-taugliche Produkte bestimmt, die eine beträchtliche Flexibilität für die Defektverifikation erfordern, aber mit der Herausforderung der Kosteneffizienz konfrontiert sind.

    • Stützt sich auf eine bewährte und robuste Messplattform.
    • Ermöglicht durch Realisierung einer Doppelschieberlösung mehr Beleuchtungsflexibilität, die eine große Vielfalt an konventionellen Beleuchtungsschemata bietet.
    • Bietet die Möglichkeit der FreeForm Illumination (FFI) für die Realisierung komplexerer Beleuchtungsformen zur Unterstützung von SMO-Anforderungen.
    • Bietet einen erhöhten Durchsatz für hohe Produktivität und eine Variante mit geringer NA, die den Austausch mehrerer Werkzeuge ermöglicht.
  • AIMS® fab neo

    Ausgestattet mit hochmodernen Komponenten für die 248 nm-Defektqualifizierung

    ZEISS AIMS fab neo bietet die Möglichkeit, mit hoher Produktivität Defekt- und Reparaturprüfungen für 248 nm-Photomasken durchzuführen.

    • Ausgestattet mit modernster Technologie ist das System die erste Wahl, wenn Vereinfachung und Kosteneffizienz die größte Herausforderung darstellen.
    • Bietet ein völlig neues Design. Der Strahlengang wurde verbessert, was eine hohe Zuverlässigkeit und mehr Wartungsfreundlichkeit gewährleistet.
    • Die Beleuchtungseinheit ist mit einem austauschbaren Schieber ausgestattet, der eine Voreinstellung von bis zu 21 benutzerdefinierten Sigma-Blenden ermöglicht. Dies ermöglicht einen einfachen Wechsel der Beleuchtungsarten während des Betriebs.
Ein Mitarbeiter hält eine Photomaske im Reinraum bei ZEISS SMT

Scanner-äquivalente Beleuchtungsbedingungen

AIMS® arbeitet unter den gleichen optischen Bedingungen wie der Scanner und ermöglicht es, die Printability der Photomaske bereits im Mask Shop zu prüfen. Die Technologie meistert die Herausforderungen, die sich mit zunehmender Komplexität, strengeren Maskenspezifikationen und einer genaueren und zuverlässigeren Fehlerdisposition ergeben. Im Zuge der Entwicklung verschiedener Gerätegenerationen wurden immer komplexere Beleuchtungsschemata benötigt. Daher wurde FlexIllu®  entwickelt, eine computergesteuerte Beleuchtung für ZEISS DUV High-endSysteme, die eine Schlüsselrolle für die SMO-Technologie spielt.  Von größter Bedeutung für die Qualifizierung der Prinability einer Photomaske ist, dass das System alle optischen Effekte einschließlich Vektoreffekten und 3D-Maskeneffekten berücksichtigt.
AIMS® 1x-193i bewirkt eine Aberrationskorrektur für die neueste Scannertechnologie und trägt zusammen mit der verbesserten Gleichmäßigkeit der Pupillen zu einem hervorragenden Scanner- und "tool- to-tool matching" bei.

Eine Photomaske im Qualifizierungstool ZEISS AIMS 1x

Umfassende Leistungsverbesserungen

Die neueste Generation des ZEISS AIMS 1x-193i kann durch umfassende Leistungsupgrades erweitert werden, um die Fähigkeiten in Bezug auf CD-Wiederholbarkeit und Durchsatz zu steigern und mit den aktuellen technologischen Anforderungen Schritt zu halten.  Für AIMS® EUV bietet ZEISS Plattformerweiterungen wie Digital FlexIllu, Phasenmetrologie und HiNA Upgrade an, um unsere Kunden bei den laufenden technologischen Anforderungen zu unterstützen.  Darüber hinaus können neueste Automatisierungsfunktionen wie AIMS® AutoAnalysis  die Produktivität und Zuverlässigkeit erheblich steigern.

Bedienfeld eines ZEISS Qualifizierungstools mit einer Photomaske

Maßgeschneiderte Konfiguration

ZEISS bietet ein breites Spektrum an Gerätegenerationen, die auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind. Die Systeme sind für verschiedene Beleuchtungswellenlängen und Anwendungen optimiert und zielen auf konkrete Marktanforderungen ab. ZEISS EUV- und 193-nm-High-End-AIMS-Systeme erfüllen die Anforderungen des High-End-Marktes, der durch eine hohe Komplexität der Features, komplexe Beleuchtungsschemata und eine stetige Verschärfung der Defekt- und Maskenspezifikationen gekennzeichnet ist. Der reife Markt erfordert robuste Prozesse, hohe Produktivität und kosteneffiziente Lösungen. Diese Anforderungen werden mit den 193 nm und 248 nm AIMS Systemen erfüllt.

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