Überwachung mit laufendem Automatisierungsprogramm

Digitale Lösungen Für höhere Produktivität, kürzere Zykluszeiten und mehr Zuverlässigkeit

ZEISS bietet verschiedene Automatisierungsanwendungen an, die auf dem FAVOR® Server ausgeführt werden. Diese steigern durch intelligente Automatisierung und unterstützende Technologien die Produktivität und Zuverlässigkeit. Erhebliche Zeiteinsparungen und eine verbesserte Zuverlässigkeit ergeben sich aus der Reduzierung manueller Schritte und menschlicher Fehler. Modulare Anwendungen bieten Lösungen für konkrete Produktionsanforderungen. Weiter unten finden Sie die ganze Palette unserer systemunterstützenden Softwareprogramme.

 

  • AIMS® AutoAnalysis

    AIMS® AutoAnalysis Vollständige Automatisierung der Datenanalyse

    AIMS® AutoAnalysis läuft unabhängig von der Gerätesoftware, so dass die AIMS®-Systeme nur für Messungen verwendet werden können, während parallel die Analyse stattfindet. Das Applikation optimiert die Prozesse, da sie die Produktivität steigert, Zeit für die Bediener einspart und die Ergebnisse standardisiert. 

    • Die Computerleistung wird für die Anwendung optimiert.
    • Alle aktuellen AIMS®-Systemgenerationen werden unterstützt.
    • Bis zu 40 % der Prozesszeit für das Backend der Fertigungslinie können pro Maske eingespart werden, sodass die Software zur Verbesserung des gesamten Prozessablaufs beiträgt.
    • Die Bediener haben mehr Zeit zur Verfügung und können sich auf andere Arbeiten konzentrieren.
  • Frau arbeitet mit Automatisierungssoftware zur Analyse von Fotomaskenfehlern

    AIMS® AutoAnalysis EUV

    Automatisierung für AIMS® EUV

    AIMS® AutoAnalysis EUV erweitert die automatisierte Fehlerprüfung auf das Segment der High-End EUV-Maskenherstellung.

    • Parallelverarbeitung sorgt für einen hohen Durchsatz und dank ausgefeilter Analysealgorithmen ist die Auswertung selbst kleinster EUV-Strukturen möglich.
    • Erweiterte Standardisierung, die durch einen rezept- und vorlagenbasierten Ansatz realisiert wird, ermöglicht es zudem, DUV-Prozesse für die EUV-Maskenherstellung identisch ablaufen zu lassen.
  • Advanced Repair Center

    Advanced Repair Center

    Optimiert die Produktivität im Backend der Fertigungslinie

    Das Advanced Repair Center (ARC) kann Tools und Softwareprodukte auf intelligente Weise verbinden.

    • Hierbei handelt es sich um eine Lösung für das Backend der Fertigungslinie, die auf Produktivitätssteigerung, Kosteneinsparung und kürzere Durchlaufzeiten durch den Einsatz intelligenter Automatisierung abzielt.
    • Aufbauend auf die bereitgestellte Konnektivität erleichtert sie das Datenmanagement und die Optimierung des Prozessablaufs für den gesamten Fehlerbearbeitungsprozess.
    • Dadurch werden die Anzahl der erforderlichen manuellen Eingriffe erheblich reduziert und die Anfälligkeit der Prozesse für menschliche Fehler verringert. Das führt zu einer höheren Zuverlässigkeit.

Video zu Advanced Repair Center (ARC)

ARC verbindet Tools und Softwareprodukte auf intelligente Weise

  • Ingenieur bei der Arbeit am ZEISS MeRiT-System

    MeRiT® AutoAnalysis Steigert die Produktivität und optimiert die Kapazität

    MeRiT® AutoAnalysis MAA bietet eine vollautomatische Analyselösung für Workflows zur Photomaskenreparatur mit MeRiT®. Unabhängig von der Gerätesoftware können die SEM-Bilder vor und nach der Reparatur parallel zu anderen Aktivitäten analysiert werden, was zu einer erheblichen Zeitersparnis führt. Neben der Verfügbarkeit aller Analysedaten an einem einzigen Ort bietet die Anwendung ausgefeilte Analysestrategien, die mit der Reparatur von High-End-EUV-Masken kompatibel sind. Eine hohe Sensitivität bei der Defekterkennung gewährleistet Qualitätsziele und verhindert, dass der Anwender notwendige Nacharbeiten übersieht.

  • ForTune simuliert Aufträge und erstellt Rezepte

    ForTune Tuning-Modul Simuliert Aufträge und erstellt Tuning-Rezepte

    Das Softwarepaket ForTune Tuning Module ermöglicht die Erstellung von Rezepten sowie umfangreiche Datenanalysen und Simulationen vor dem ForTune-Prozess (CDC & RegC®-Anwendungen). Die vielseitigen Auftragsabwicklungsfunktionen dieses Moduls gewährleisten eine hohe Prozesseffizienz, eine überragende Vorhersagegenauigkeit und eine sofortige Entscheidungsfindung.

  • Local Registration Map

    Local Registration Map

    Messung von Abweichungen in großem Maßstab

    Local Registration Map LRM ist eine PROVE®-Anwendung, die es ermöglicht, dichte lokale Registration Messungen mit bisher unerreichter räumlicher Auflösung und deutlich verbessertem Durchsatz durchzuführen. Neben Anwendungen wie der anspruchsvollen Overlay-Vorhersage ist die LRM-Funktionalität eine wichtige Voraussetzung der neuen Kalibrierungsschemata für moderne elektronenstrahlbasierte Maskenschreiber (VSB und MBMW).

Video über MeRiT® AutoAnalysis MAA

Automatisierte Analyse von SEM Daten

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