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Eine ZEISS Mitarbeiterin im Reinraum der SMT mit einer Photomaske
Photomaskenreparatur-Lösungen

Photomasken Reparatursysteme Defektfreie Photomasken dank elektronenstrahlbasierter Maskenreparatur

Die Skalierungstrends gehen weiterhin in Richtung kleinerer Technologieknoten und Strukturgrößen, sodass die EUV-Technologie in der Halbleiterindustrie zunehmend an Bedeutung gewinnt. Die damit verbundene Komplexität in der Maskenherstellung nimmt deutlich zu, wie auch die Notwendigkeit, Defekte auf high-end Photomasken zu reparieren. Mit MeRiT® bietet ZEISS optimierte Lösungen für die Reparatur verschiedenster Photomaskentypen an, mit denen die kleinsten Defekte behoben werden können. Das Particle Removal Tool (PRT) ermöglicht das Entfernen kleinster Partikel auf einer Photmaske. 

  • Ermöglicht eine defektfreie Maskenherstellung
Laptop und Papers mit Publikationen im Halbleiterbereich von ZEISS SMT
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Pushing the limits of EUV mask repair

Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology I Vol. 20 · No. 3 | September 2021

Neue wissenschaftliche Arbeit über die Reparatur von Defekten auf EUV-Masken auf der Basis von eBeam Technologie.
Autoren: Tilmann Heil, Michael Waldow, Renzo Capelli, Horst Schneider, Laura Ahmels, Fan Tu, Johannes Schöneberg, Hubertus Marbacha  
http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.20.3.031013.

  

  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können
  • Highend Photomaske mit kleinsten Strukturen, die mit ZEISS MeRiT repariert werden können

Hoch präzise elektronenstrahlbasierte Maskenreparatur

ZEISS MeRiT stehen für Systeme auf dem neuesten Stand der Technik für die Reparatur von high-end Photomasken und basieren auf durch fokussierten Elektronenstrahl induzierte Prozessierung. Sie ermöglichen die Reparatur extrem kleiner Defekte mithilfe von Elektronenstrahlsäulen, die für niedrigste Energien optimiert sind. Transparente und opaque Defekte vieler unterschiedlicher Geometrien auf binären, phasenschiebenden, Nanoimprint- und EUV-Masken können repariert werden. Die modulare Software des Systems liefert zusammen mit der Struktur-Kopierfunktion ein hohes Maß an Automatisierung. Der Rezept-basierte Ansatz bietet hohe Flexibilität und lässt benutzerspezifische Erweiterungen für neue Maskentypen zu.  

Weiter unten finden Sie die ganze Auswahl der aktuellen MeRiT® Systeme

  • MeRiT® LE Niedrigenergietechnologie für extrem kleine Defekte

    ZEISS MeRiT LE zur Reparatur von Photomasken

    ZEISS MeRiT® LE  steht für die nächste Generation der Reparatursysteme für high-end Photomasken mit einem besonderen Schwerpunkt auf der Reparatur von EUV Masken.

    • Es ermöglicht die Reparatur von noch kleineren Strukturen und verbesserte Platzierungsgenauigkeit an Kanten, um der höheren Anzahl und Komplexität von Strukturdefekten auf high-end Photomasken gerecht zu werden.
    • Die überarbeitete Plattform basiert auf durch fokussierten Elektronenstrahl induzierter Prozessierung und bietet höchste Auflösung bei der Reparatur.
    • Sie ist mit einer neuen Elektronenstrahlsäule ausgestattet, die für niedrigste Elektronenenergien und verbesserte Wartungsfähigkeit optimiert wurde.

  • MeRiT® neXT

    E-Beam Photomaskenreparatur der Spitzenklasse
    ZEISS MeRiT neXT zur Reparatur von Photomasken

    MeRiT® neXT ist der Industriestandard für Reparaturen an high-end Photomasken.

    • Durch den Einsatz von ZEISS Elektronenstrahlsäulen ermöglicht es die Reparatur kleinster Defekte auf Photomasken vieler unterschiedlicher Typen.
    • Transparente und opaque Defekte können durch Belichtung mit fokussierten Elektronenstrahlen und Adsorption von Precursor-Molekülen repariert werden.

  • MeRiT® MG neo

    Photomasken Reparatursystem für den 45nm Technologieknoten
    ZEISS MeRiT MG neo zur Reparatur von Photomasken

    Mit der bewährten und hochmodernen Technologie des MeRiT® MG neo bietet ZEISS eine Lösung für die Bedürfnisse von kostenorientierten Kunden im Bereich des 45nm Technologieknoten an.

    • Die neu entwickelte, kleinere Plattform des MeRiT® MG neo ermöglicht einen Austausch bestehender Reperaturtools auch in etablierten Produktionsstätten mit begrenztem Platzangebot.
    • Das MeRiT® MG neo wurde für niedrigere Wartungs- und Betriebskosten entwickelt und ist für den 45nm Technologieknoten optimiert
    • Eine benutzerfreundliche, workflow-orientierte Software mit dem typischen MeRiT®-Assistenten sorgt für das bekannte Look-and-Feel der High-End ZEISS Reparatursysteme

  • MeRiT® neXT BE

    Optimierte Reparaturlösung für etablierte Technologieknoten
    Strichzeichnung eines ZEISS SMT Produkts MeRiT MG neo

    ZEISS MeRiT neXT BE ist eine Photomasken-Reparaturlösung, die für etablierte Technologieknoten bis hinunter zum 32-nm-Technologieknoten optimiert ist. Sie eignet sich für die Reparatur von unterschiedlichen Photomaskenmaterialien und basiert auf der MeRiT® neXT-Toolplattform.

    • Die kostenoptimierte Lösung ermöglicht transparente und opake Defektreparaturen auf DUV-Masken
    • Das ZEISS MeRiT neXT BE basiert auf den bewährten SW/HW-Architekturen der aktuellen MeRiT®-Tools und verwendet modernste Komponenten
    • Die modulare Tool-Plattform ermöglicht auf den jeweiligen Kundenbedarf abgestimmte Upgrade-Pakete zur Verbesserung der Reparaturauflösung und/oder zur Adressierung weiterer Maskentypen

  • ZEISS PRT

    Schnelle Partikelentfernung auf Photomasken
    Strichzeichnung des Particle Removal Tools von ZEISS

    Defektprüfung mit Rasterelektronenmikroskopie (SEM review), Materialanalyse und Maskenreparatur in einem Gerät - das ist das Particle Removal Tool (PRT). Es entfernt kleinste Partikel von Photomasken und Blanks. Das ZEISS PRT extrahiert Partikel aus sehr kleinen Strukturen wie Kontaktlöchern. Durch die Bildgebung in Echtzeit erhalten die Anwendenden eine sofortige Rückmeldung und die Möglichkeit, den Entfernungsprozess vollständig zu kontrollieren. Das ZEISS PRT charakterisiert das Partikelmaterial mit EDX und ermöglicht so die Identifizierung und Beseitigung der Partikelquelle. 

    • Entfernt extrem kleine Partikel mit Echtzeit-Bildgebung
    • Partikel können mit EDX charakterisiert werden (Materialanalyse)
    • Identifizierung und Eliminierung der Partikelquelle durch Materialanalyse

  • Digitale Lösungen

    Auf dem FAVOR® Server
    Monitor mit Repair Analyse Software

    Mit der FAVOR®-Plattform lassen sich Produktivität und Zuverlässigkeit durch intelligente Automatisierung verbessern. ZEISS bietet mehrere Automatisierungsanwendungen an. Alle aufgeführten Lösungen werden durch die MeRiT®-Technologie unterstützt.

    • Advanced Repair Center (ARC) – ist eine Back-end of Line Lösung, die durch den Einsatz von intelligenter Automatisierung eine gesteigerte Produktivität, Kosteneinsparungen und kürzere Durchsatzzeiten ermöglicht.
    • MeRiT® AutoAnalysis (MAA) – ist eine vollautomatische Analyselösung für Workflows zur Photomaskenreparatur mit MeRiT®.
    Übersicht digitale Lösungen
Ausschnitt einer Photomaske mit Defekten vor der Reperatur mit ZEISS MeRiT
Ausschnitt einer Photomaske mit Defekten nach der Reperatur mit ZEISS MeRiT

Defektfreie Maskenherstellung – Reparatur kleinster Defekte ermöglicht die Herstellung perfekter Masken

Die Herstellung defektfreier Masken ist entscheidend, da jeder Defekt auf der Photomaske vielfach auf den Wafer aufgebracht wird, was zu fehlerhaften Mikrochips führt. Da nahezu jede Maske Defekte aufweist, ist eine verlässliche und effektive Reparaturtechnologie notwendig. Die durch Gase unterstützte Elektronenstrahl- (E-Beam-)Lithographie ermöglicht die Reparatur aller möglichen Defekte auf Masken verschiedener Art. Besonders bei sehr kleinen Strukturgrößen, wie sie in EUV-Masken vorkommen, ist MeRiT® die einzig verfügbare Lösung auf dem Markt, die solche Defekte zuverlässig reparieren kann.

So werden hochwertige EUV-Photomasken repariert

Schauen Sie sich das neue Video über ZEISS MeRiT® LE an

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