Semiconductor Manufacturing Technology
SMS Reparaturlösungen - ZEISS MeRit
Photomaskenreparatur-Lösungen

ZEISS MeRiT Defektfreie Photomasken dank elektronenstrahlbasierter Maskenreparatur

Die Skalierungstrends gehen weiterhin in Richtung kleinerer Technologieknoten und Strukturgrößen, sodass die EUV-Technologie in der Halbleiterindustrie zunehmend an Bedeutung gewinnt. Die damit verbundene Komplexität in der Maskenherstellung nimmt deutlich zu, wie auch die Notwendigkeit, Defekte auf high-end Photomasken zu reparieren. Mit MeRiT® bietet ZEISS optimierte Lösungen für die Reparatur verschiedenster Photomaskentypen an, mit denen die kleinsten Defekte behoben werden können.

  • Ermöglicht eine defektfreie Maskenherstellung
Wissenschaftliche Arbeiten zur Maskendefekterkennung
Neu

Pushing the limits of EUV mask repair

Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology I Vol. 20 · No. 3 | September 2021

Neue wissenschaftliche Arbeit über die Reparatur von Defekten auf EUV-Masken auf der Basis von eBeam Technologie.
Autoren: Tilmann Heil, Michael Waldow, Renzo Capelli, Horst Schneider, Laura Ahmels, Fan Tu, Johannes Schöneberg, Hubertus Marbacha 
http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.20.3.031013.

 

Hoch präzise elektronenstrahlbasierte Maskenreparatur

ZEISS MeRiT stehen für Systeme auf dem neuesten Stand der Technik für die Reparatur von high-end Photomasken und basieren auf durch fokussierten Elektronenstrahl induzierte Prozessierung. Sie ermöglichen die Reparatur extrem kleiner Defekte mithilfe von Elektronenstrahlsäulen, die für niedrigste Energien optimiert sind. Transparente und opaque Defekte vieler unterschiedlicher Geometrien auf binären, phasenschiebenden, Nanoimprint- und EUV-Masken können repariert werden. Die modulare Software des Systems liefert zusammen mit der Struktur-Kopierfunktion ein hohes Maß an Automatisierung. Der Rezept-basierte Ansatz bietet hohe Flexibilität und lässt benutzerspezifische Erweiterungen für neue Maskentypen zu. 

Weiter unten finden Sie die ganze Auswahl der aktuellen MeRiT® Systeme

  • ZEISS MeRiT® LE

    MeRiT® LE Niedrigenergietechnologie für extrem kleine Defekte

    ZEISS MeRiT® LE steht für die nächste Generation der Reparatursysteme für high-end Photomasken mit einem besonderen Schwerpunkt auf der Reparatur von EUV Masken.

    • Es ermöglicht die Reparatur von noch kleineren Strukturen und
    • verbesserte Platzierungsgenauigkeit an Kanten, um der höheren Anzahl und Komplexität von Strukturdefekten auf high-end Photomasken gerecht zu werden.
    • Die überarbeitete Plattform basiert auf durch fokussierten Elektronenstrahl induzierter Prozessierung und bietet höchste Auflösung bei der Reparatur.
    • Sie ist mit einer neuen Elektronenstrahlsäule ausgestattet, die für niedrigste Elektronenenergien und verbesserte Wartungsfähigkeit optimiert wurde.
  • MeRiT® neXT

    MeRiT® neXT

    E-Beam Photomaskenreparatur der Spitzenklasse

    MeRiT® neXT ist der Industriestandard für Reparaturen an high-end Photomasken.

    • Durch den Einsatz von ZEISS Elektronenstrahlsäulen ermöglicht es die Reparatur kleinster Defekte auf Photomasken vieler unterschiedlicher Typen.
    • Transparente und opaque Defekte können durch Belichtung mit fokussierten Elektronenstrahlen und Adsorption von Precursor-Molekülen repariert werden.
  • Digitale Lösungen

    Digitale Lösungen

    Auf dem FAVOR® Server

    Mit der FAVOR®-Plattform lassen sich Produktivität und Zuverlässigkeit durch intelligente Automatisierung verbessern. ZEISS bietet mehrere Automatisierungsanwendungen an. Alle aufgeführten Lösungen werden durch die MeRiT®-Technologie unterstützt.

    • Advanced Repair Center (ARC) – ist eine Back-end of Line Lösung, die durch den Einsatz von intelligenter Automatisierung eine gesteigerte Produktivität, Kosteneinsparungen und kürzere Durchsatzzeiten ermöglicht.
Maskenreparatur MeRiT - Defekt
Maskenreparatur MeRiT - Reparatur

Defektfreie Maskenherstellung – Reparatur kleinster Defekte ermöglicht die Herstellung perfekter Masken

Die Herstellung defektfreier Masken ist entscheidend, da jeder Defekt auf der Photomaske vielfach auf den Wafer aufgebracht wird, was zu fehlerhaften Mikrochips führt. Da nahezu jede Maske Defekte aufweist, ist eine verlässliche und effektive Reparaturtechnologie notwendig. Die durch Gase unterstützte Elektronenstrahl- (E-Beam-)Lithographie ermöglicht die Reparatur aller möglichen Defekte auf Masken verschiedener Art. Besonders bei sehr kleinen Strukturgrößen, wie sie in EUV-Masken vorkommen, ist MeRiT® die einzig verfügbare Lösung auf dem Markt, die solche Defekte zuverlässig reparieren kann.

So werden hochwertige EUV-Photomasken repariert

Schauen Sie sich das neue Video über ZEISS MeRiT® LE an

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