München, Oberkochen | 24. April 2018 | ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Das Europäische Patentamt nominiert Erik Loopstra und Vadim Banine für ihre Beiträge zur Entwicklung der Extreme Ultraviolet Lithographie (EUV). Erik Loopstra, ursprünglich bei ASML tätig, arbeitet seit Jahren am ZEISS Standort Oberkochen im Unternehmensbereich Semiconductor Manufacturing Technology eng mit ASML- und ZEISS Mitarbeitern zusammen. Vadim Banine ist Director of Research beim Halbleiter-Equipment-Hersteller ASML.

Der Ingenieur Erik Loopstra und der Physiker Vadim Banine wurden vom Europäischen Patentamt in der Kategorie „Industrie“ für den Europäischen Erfinderpreis nominiert. Beide haben gemeinsam mit ihren Ingenieurs- und Forscherteams bahnbrechende Erfindungen für die Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) entwickelt. EUV-Lithographie ermöglicht, geometrische Strukturen auf sogenannte Wafer, welche die Basis für Mikrochips bilden, in nie gekannter Präzision aufzubringen. Dadurch wird nicht nur Moores Law weitergetrieben, sondern es können künftig auch Mikrochips hergestellt werden, deren Detailstrukturen 8 Nanometer groß sein werden – das entspricht 8 Millionstel Millimeter.

Dies ist für den Halbleiterausrüstungshersteller ASML und seinen strategischen Partner Carl Zeiss SMT GmbH ein Durchbruch nach zwei Jahrzehnten enger Forschungskooperation aus Wissenschaftlern und Lieferanten. Die EUV-Technologie erreichte damit 2017 Marktreife. Nun kann eine neue Generation von Chips hergestellt werden, die gegenüber älteren Herstellungsmethoden schneller und einfacher produziert wird. Die neue Technologie spart nicht nur Chipherstellern Zeit und Kosten ein, sondern wird vor allem Innovationen in den Bereichen Heimelektronik, Gesundheit, Unterhaltung, Autonomes Fahren, Robotik und Künstliche Intelligenz antreiben.

Moderne Computerchips müssen bei stetig steigender Funktionalität in immer höherem Tempo immer größere Datenmengen verarbeiten. Gleichzeitig sollen weder Energieverbrauch noch Fertigungskosten pro Chip steigen. Diese Entwicklung kann nur dann fortgeführt werden, wenn die Anzahl der integrierten Schaltkreise, die auf einem Mikrochip Platz finden, immer weiter steigt. Genau dies erlaubt die EUV-Lithographie“, sagt Dr. Karl Lamprecht, Mitglied des Vorstands der ZEISS Gruppe und Vorsitzender der Geschäftsführung der Carl Zeiss SMT GmbH. „Indem Erik Loopstra und Vadim Banine ihre Fähigkeiten als Ingenieur und Physiker miteinander kombiniert haben, konnten sie signifikant dazu beitragen, eine Technologie zu entwickeln, die es ermöglichen wird, die nächste Generation von Mikrochips herzustellen“, fügt der Präsident des Europäischen Patentamts, Benoît Battistelli, hinzu.

Wer von den Nominierten zu den Gewinnern des Europäischen Erfinderpreises zählt, wird am 7. Juni 2018 in Paris Saint-Germain-en-Laye bekannt gegeben. Der Europäische Erfinderpreis ist einer der wichtigsten Innovationspreise in Europa. Er wird seit 2006 jährlich vom Europäischen Patentamt verliehen. Mit dem Preis werden einzelne Erfinder und Teams von Erfindern ausgezeichnet, die mit ihren Entwicklungen dazu beitragen, technische Antworten auf die zentralen Herausforderungen unserer Zeit zu finden.