30 Jahre EUV-Lithographie-Optiken bei ZEISS

Die EUV-Lithographie galt lange als visionär und technisch nicht umsetzbar. Heute ermöglicht diese Technologie leistungsfähige Mikrochips für unsere Smartphones und Künstliche Intelligenz. Bei ZEISS SMT sind wir Teil dieser Entwicklung, gemeinsam mit ASML, und begeben uns auf eine Zeitreise mit unseren wichtigsten Meilensteinen.

Stellen Sie sich eine Welt ohne leistungsstarke Mikrochips vor. Eine Welt, in der Ihr Smartphone nicht mehr in der Lage ist, in Sekundenbruchteilen Informationen aus der ganzen Welt zu sammeln und diese dank Künstlicher Intelligenz ziemlich zielgenau aufzubereiten. Eine Welt, in der Ihr Laptop nicht mehr die Rechenleistung besitzt, um komplexe Aufgaben zu bewältigen oder Ihre Lieblingsfilme in gestochen scharfer Qualität zu streamen. Ohne die vielen Wunderwerke, die Mikrochips ermöglichen, wäre unser Alltag ein völlig anderer.

Hier möchte ich Sie mitnehmen in die Welt der EUV-Lithographie (extreme ultraviolet light), kurz EUV. EUV ist die Schlüsseltechnologie, die die Herstellung extrem leistungsfähiger Mikrochips ermöglicht. Sie ist das Herzstück der modernen Elektronik und treibt Innovationen voran, die unsere Welt verändern. Denn dank der EUV-Lithographie werden Mikrochips immer kleiner, effizienter und leistungsfähiger. Das ist die Basis für Smartphones mit extrem schneller Rechenleistung und Tech-Trends wie Generative Künstliche Intelligenz (KI), Augmented Reality (AR) und Virtual Reality (VR) oder Smart Health.

Doch eins nach dem anderen. Schauen wir uns den Beginn der heutigen Tech-Trends an und reisen gemeinsam in die Vergangenheit. Denn die EUV-Geschichte geht weit in die 1980er Jahre zurück, als in Japan Hiroo Kinoshita die ersten EUV-Abbildungen projizierte. In den 1990er kamen dann viele Akteure auf den Spielplan. Diese wichtigen Akteure formten die ersten Meilensteine für die heutige EUV-Technologie. Ein Schlüsselunternehmen ist das niederländische Hochtechnologieunternehmen ASML. ASML hat sich mit der Zeit von einem Nischenanbieter auf dem europäischen Markt zu einem globalen Branchenführer im Bereich Halbleitertechnologie entwickelt und ist bis heute Hersteller von EUV-Lithographie-Maschinen. Gemeinsam mit ZEISS und vielen weiteren Partnern aus Europa hat ASML die EUV-Lithographie realisiert und damit unser digitales Leben und Arbeiten entscheidend verändert. Bei ZEISS sind wir sehr stolz darauf ein wichtiger Teil dieses weitvernetzten und hochinnovativen Ökosystems zu sein und unsere Geschichte als Teil der EUV-Geschichte zu erzählen. Denn unsere Optiken, die als die präzisesten Spiegel mit mechatronischen Systemen beschrieben werden können, sind das Herzstück der EUV-Systeme unseres strategischen Partners ASML.

Dabei war die EUV-Entwicklung kein Selbstläufer. Der Weg von der Idee zur Serienreife war lang und steinig. Vor 30 Jahren galt die Schlüsseltechnologie als zu visionär und technisch nicht umsetzbar. Ebenso unsicher waren die strategischen und wirtschaftlichen Auswirkungen für die künftige Marktposition im dynamischen Halbleitermarkt. Die Herausforderungen waren also enorm anspruchsvoll. Doch mit Pioniergeist, unermüdlichem Engagement und Teamarbeit gelang es den Entwicklerinnen und Entwicklern, auch dank der Geduld der Kunden, die hochkomplexe EUV-Lithographie bis zur Marktreife zu bringen.