Halbleiter

Die  optische Scatterometrie oder Optical Critical Dimension (OCD) ist eine gängige Inline-Messtechnik zur Prozesssteuerung in der Halbleiterproduktion. Neben bildgebenden Verfahren wie CD-SEM hat sich OCD zu einer schnellen, präzisen und zerstörungsfreien Messtechnik entwickelt. Sie gibt Auskunft über kritische Abmessung, Höhe oder Seitenwandwinkel der beobachteten Musterstrukturen. Die relevanten Profilformparameter werden bestimmt, indem ein kleiner Bereich auf der Scheibe unter einem bestimmten Winkel beleuchtet und das Streulicht über ein Spektrometer im UV-NIR-Spektralbereich beobachtet wird. Zur Bestimmung von Musterprofilinformationen werden modellbasierte Techniken des maschinellen Lernens auf Wafer-Trainingsspektren als Referenz angewandt.  ZEISS liefert OEM-High-Performance-Spektrometer wie das  MCS-CCD  (190 - 980 nm) oder kundenspezifische Konfigurationen für CD- und Overlay-OCD-Messtechnik.
Hochwertige  optische  Plangitter ermöglichen Ihnen die Messung von Spitzenparametern in Ihrer Messtechnik und sind auf spezifische Kundenanforderungen ausgelegt, wie z. B. geringste Streulichtwerte, hohe Effizienz und niedrigste Wellenfrontaberration.

Die Herstellung von Halbleiterbauelementen ist stark von Plasma-Ätzprozessen abhängig. Wenn Muster auf einen Wafer geätzt werden, ist die Inline-Kontrolle des Ätzfortschritts von entscheidender Bedeutung, um Über- und Unterätzungen zu vermeiden und optimierte Prozessparameter, hohen Ertrag und Produktivität sicherzustellen. Optische Messtechniken,  wie Optische Emissionsspektroskopie (OES), Spektralreflektometrie (SR) und Laserinterferometrie werden für die Endpunktkontrolle von Plasma-Ätzprozessen eingesetzt. ZEISS MCS CCD (190 - 1015 nm) und die  CGS Serie (190 - 1100 nm) sind ideal  für die Echtzeitüberwachung der Konzentrationen von Plasmareaktanten in OES-Ätzprozessen. MCS-CCD zeichnet sich durch hohe Auflösung, breite spektrale Abdeckung, gute Wellenlängengenauigkeit und schnelle Auslesung aus. Für die Spektralreflektometrie bieten die Spektrometer der MCS-Serie und der CGS-Serie den erforderlichen hohen Dynamikbereich und ein gutes Signal-Rausch-Verhältnis. ZEISS bietet Plangitter  an, die in Ein- oder Mehrkanalspektrometern von VUV bis NIR für kundenspezifische Spektrometerentwicklungen zur Plasmaüberwachung und Endpunktdetektion eingesetzt werden. Plangitter mit einem breiten Bereich von Liniendichten zwischen 30 {(-)} l/mm und 3600 {(-)} l/mm bieten aufgrund der geringsten Streulichtpegel eine gut angepasste Auflösung und Signal-Rausch-Verhältnisse.